[发明专利]一种POSS基可逆热致变色膜材料的合成方法有效
申请号: | 202110335655.4 | 申请日: | 2021-03-29 |
公开(公告)号: | CN112980021B | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 刘丽;许耀元;黄玉东;龙军;钟正祥 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C08L83/08;C08K3/28;C08K3/16 |
代理公司: | 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 | 代理人: | 王新雨 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 poss 可逆 变色 材料 合成 方法 | ||
一种POSS基可逆热致变色膜材料的合成方法,属于变色材料合成技术领域。本发明解决了目前在80‑200℃区间变色材料较少的问题,所述方法为:将POSS溶解在水中;将铬盐加入到POSS水溶液中;20‑40℃搅拌1~24h,20‑80℃挥发溶剂,溶剂完全挥发后即得POSS基可逆热致变色膜材料。本发明首次合成了POSS基可逆热致变色膜材料,其变色区间在80‑200℃,变色明显,扩大了POSS的应用领域。本发明可以合成具有多种颜色变化的POSS基膜材料。本发明具有后处理方法简单,处理条件温和,膜材料变色范围广,变色速度快等优点。使用水作为溶剂,低温反应生成POSS基变色膜材料,绿色环保且反应条件温和。
技术领域
本发明属于变色材料合成技术领域,具体涉及一种POSS基可逆热致变色膜材料的合成方法。
背景技术
多面体低聚倍半硅氧烷(Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane,简称POSS),是一类具有笼型骨架的有机-无机纳米化合物。由于POSS的笼型骨架对称架构,使得POSS具有优异的介电,热稳定性等,现阶段,POSS大多作为填料,用来提高聚合物的耐热性,力学性能,介电性能和导电能力等,POSS用作可逆热致变色材料的相关文献报道较少。
目前,高温区(变色温度在200-1000℃)的可逆热致变色材料种类较多,大多为无机填料,变色温度在80-200℃的变色材料较少,POSS基可逆热致变色材料几乎未见文献或专利报道。
发明内容
本发明解决了目前在80-200℃区间变色材料较少的问题,提供一种POSS基可逆热致变色膜材料的合成方法,合成的材料可以通过温度来控制其颜色变化,可逆是指颜色变化后,还会恢复原来的颜色。
为实现上述目的,本发明采取的技术方案如下:
一种POSS基可逆热致变色膜材料的合成方法,所述方法包括以下步骤:
步骤一、将POSS溶解在水中;
步骤二、将铬盐加入到POSS水溶液中;
步骤三、20-40℃搅拌1~24h,20-80℃挥发溶剂,溶剂完全挥发后即得POSS基可逆热致变色膜材料。
本发明相对于现有技术的有益效果为:
(1)本发明首次合成了POSS基可逆热致变色膜材料,其变色区间在80-200℃,变色明显,扩大了POSS的应用领域。
(2)本发明的合成方案经济,绿色,可以合成具有多种颜色变化的POSS基膜材料。
(3)本发明具有低温合成安全,后处理方法简单,处理条件温和,膜材料变色范围广,变色速度快等优点。
(4)使用水作为溶剂,低温反应生成POSS基变色膜材料,绿色环保且反应条件温和。
(5)POSS基膜材料在80℃开始具有明显的颜色变化,由绿色向黄绿色,黄褐色,紫色转变。
(6)本发明的POSS基膜材料具有颜色多变,反应灵敏的优点。
附图说明
图1为实施例1合成的POSS基可逆热致变色膜材料的变色图;
图2为实施例2合成的POSS基可逆热致变色膜材料的变色图;
图3为实施例3合成的POSS基可逆热致变色膜材料的变色图;
图4为实施例4合成的POSS基可逆热致变色膜材料的变色图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明的技术方案作进一步的说明,但并不局限于此,凡是对本发明技术方案进行修正或等同替换,而不脱离本发明技术方案的精神范围,均应涵盖在本发明的保护范围之中。
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