[发明专利]一种POSS基可逆热致变色膜材料的合成方法有效
| 申请号： | 202110335655.4 | 申请日： | 2021-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN112980021B | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 刘丽;许耀元;黄玉东;龙军;钟正祥 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08L83/08;C08K3/28;C08K3/16 |
| 代理公司： | 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 | 代理人： | 王新雨 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 poss 可逆 变色 材料 合成 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种POSS基可逆热致变色膜材料的合成方法，其特征在于：所述方法包括以下步骤：
步骤一、将POSS溶解在水中；所述POSS为多氨丙基POSS或多氨苯基POSS，POSS的官能团数量为2-8个；
步骤二、将铬盐加入到POSS水溶液中；所述铬盐为九水合硝酸铬或六水合氯化铬；
步骤三、20-40℃搅拌1～24h，20-80℃挥发溶剂，溶剂完全挥发后即得POSS基可逆热致变色膜材料。
2.根据权利要求1所述的一种POSS基可逆热致变色膜材料的合成方法，其特征在于：步骤一中，所述POSS与水的质量比为0.1～1：1。
3.根据权利要求1所述的一种POSS基可逆热致变色膜材料的合成方法，其特征在于：步骤二中，所述铬盐与POSS的质量比为1～4：1～5。
4.根据权利要求1～3任一项所述的一种POSS基可逆热致变色膜材料的合成方法，其特征在于：制备的POSS基膜材料在80～200℃保持30s-10min，发生颜色变化。
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