[发明专利]显示面板及其制备方法

权利要求书

1.一种显示面板，定义有显示区以及非显示区，其特征在于，所述显示面板包括：

基板；

薄膜晶体管层，设于所述基板上且对应所述显示区；

垫高层，设于所述基板上且对应所述非显示区；

层间绝缘层，设于所述垫高层上，具有一第一凹槽；

隔断层，设于所述层间绝缘层上且填充所述第一凹槽，所述隔断层远离所述垫高层的一侧具有第一倒锐角区域；

OLED器件，设于所述薄膜晶体管层上以及所述隔断层上，且所述OLED器件被所述隔断层隔断，部分所述OLED器件设于所述显示区与所述非显示区之间；以及

阴极，设于所述OLED器件上，并且连接所述非显示区的辅助阴极。

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述垫高层包括：

第一垫高块，设于所述基板上；

第二垫高块，设于所述第一垫高块上；以及

第三垫高块，设于所述第二垫高块上。

3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，

所述隔断层具有对应所述第一凹槽的第二凹槽；

所述显示面板还包括：

保护层，设于所述垫高层上且填充所述第二凹槽，所述保护层具有对应所述第二凹槽的第三凹槽；以及

第一平坦层，设于所述保护层与所述OLED器件之间且填充所述第三凹槽。

4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，

所述保护层远离所述隔断层的一侧具有第二倒锐角区域。

5.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，

所述隔断层与所述第三垫高块为所述辅助阴极；

所述隔断层与所述第三垫高块为金属导电材料。

6.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，

所述薄膜晶体管层包括：

遮光层，设于所述基板上；

缓冲层，设于所述遮光层以及所述基板上；

半导体层，设于所述缓冲层上；

栅极绝缘层，设于所述半导体层上；

栅极层，设于所述栅极绝缘层上；

所述层间绝缘层延伸至所述显示区且设于所述缓冲层上，所述显示区的层间绝缘层覆盖所述半导体层以及所述栅极层；

源漏电极层，设于所述层间绝缘层上；

钝化层，设于所述层间绝缘层上且覆盖所述源漏电极层；以及

平坦化层，设于所述钝化层上。

7.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，

所述第一垫高块与所述遮光层同层设置，所述第一垫高块与所述遮光层的材料相同；和/或，

所述第二垫高块与所述栅极绝缘层同层设置，所述第二垫高块与所述栅极绝缘层的材料相同；和/或，

所述第三垫高块与所述栅极层同层设置，所述第三垫高块与所述栅极层的材料相同。

8.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，

所述第一平坦层与所述平坦化层同层设置，所述第一平坦层与所述平坦化层材料相同；和/或，

所述钝化层与所述保护层同层设置，所述钝化层与所述保护层材料相同；和/或，

所述隔断层与所述源漏电极层同层设置，所述隔断层与所述源漏电极层的材料相同。

9.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，

所述缓冲层向所述非显示区延伸并覆盖所述第一垫高块，所述非显示区的缓冲层设于所述第一垫高块与所述第二垫高块之间。

10.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一基板，其定义有显示区与非显示区；

通过同一光罩在所述基板上形成遮光层与第一垫高块；

形成一缓冲层于所述基板、所述遮光层与所述第一垫高块上；

形成一半导体层于所述显示区的缓冲层上；

先沉积一绝缘材料于所述缓冲层以及所述半导体层上，再沉积一第一金属材料于所述绝缘材料上，并通过同一光罩形成栅极与第三垫高块；最后以所述栅极与所述第三垫高块为图案，刻蚀所述绝缘材料形成所述栅极绝缘层与所述第二垫高块；

形成层间绝缘层于所述缓冲层、所述栅极与所述第三垫高块上，在所述层间绝缘层上开设对应所述第三垫高块的第一凹槽，所述第一凹槽下凹至所述第三垫高块的上表面；

沉积一第二金属材料于层间绝缘层上，并通过同一光罩形成源漏电极层与隔断层，所述隔断层填充所述第一凹槽，所述隔断层远离所述第三垫高块的一侧具有第一倒锐角区域。