[发明专利]一种低散射双频圆极化微带天线在审

专利信息
申请号: 202110254503.1 申请日: 2021-03-09
公开(公告)号: CN113036414A 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 贾丹;杨国栋;杜彪;韩国栋;贾永涛;刘英 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十四研究所
主分类号: H01Q1/38 分类号: H01Q1/38;H01Q1/48;H01Q13/08
代理公司: 河北东尚律师事务所 13124 代理人: 王文庆
地址: 050081 河北省石*** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 散射 双频 极化 微带 天线
【说明书】:

发明提出了一种低散射双频圆极化微带天线,属于天线技术领域;其包括第一介质基板、第一金属贴片、螺旋型缝隙、金属化过孔、第二金属贴片、第三金属贴片、第二介质基板、第三介质基板、第四介质基板、金属地板、单T型缝隙、双T型缝隙、贴片电感和同轴馈电内芯。所述第一介质基板上表面印制有M×N个周期排布的第一金属贴片;所述金属地板上其中一相邻边刻蚀单T型缝隙,另一相邻边刻蚀Q个双T型缝隙;本发明通过对天线地板针对性开槽和加载电感,从而控制散射模式电流,来实现该双频圆极化微带天线的低散射特性。

技术领域

本发明涉及到天线技术领域,特别涉及一种低散射双频圆极化 微带天线。

背景技术

随着雷达截面减缩技术的快速发展,在未来的信息领域中实现 低雷达散射截面RCS特性是重中之重。当敌方雷达照射到我方物体 时反射回去的有效散射截面尽可能少的话,那么对方的探测系统就 会无法获知我方物体的实际位置,从而达到隐身的效果。而天线作 为雷达和通信系统中不可缺少的设备,对于所搭建的平台的RCS有 着显著的贡献。

如何在保证天线辐射特性不受影响的情况下来降低其RCS是一 个难题。在过去很长一段时间里,学者们提出了许多技术或者特定 的结构来降低天线的RCS。例如,第一种方法是形状改变设计技术, 通过设计出最优化的结构如仿生结构来降低RCS;第二种方法是新材 料技术,通过加载雷达吸波材料RAM和具备带阻特性的频率选择表 面FSS到天线结构上,可以显著地降低天线工作频带外的RCS,但是 使用雷达吸波材料会使得天线辐射效率下降,还有对于应用频率选 择表面来降低天线工作频带内的RCS是相当困难;第三种方法是对 消技术,通过将两种相位相差180°的人工磁导体结构周期性排列, 以此来将正入射电磁波反射到别的角度上,从而降低正入射方向上 的RCS。但是这种方法需要在天线周围加载人工磁导体,对天线的尺 寸要求比较大,而且对C波段以下的天线几乎没有应用。

发明内容

有鉴于此,本发明提供了一种低散射双频圆极化微带天线。该天 线在保证天线辐射性能的同时,实现了双频圆极化微带天线在S波 段带内带外雷达散射截面减缩。

为了实现上述目的,本发明所采取的技术方案为:

一种低散射双频圆极化微带天线,包括层叠设置的第一介质基 板、第二介质基板、第三介质基板和第四介质基板;还包括同轴馈 电结构和金属过孔;

所述第一介质基板的上表面印制有以矩形阵列方式排布的第一 金属贴片,所述第一金属贴片上刻蚀有螺旋缝隙;所述第二介质基 板的上表面设有第二金属贴片;所述第三介质基板的上表面设有第 三金属贴片;所述第四介质基板的下表面设有矩形的金属地板;所 述金属地板上其中一对相邻边的每边处均刻蚀有单T型缝隙,另一 对邻边的每边处均刻蚀有双T型缝隙,所述单T型缝隙和双T型缝 隙的垂直缝隙的末端均延伸至金属地板的边沿;所述双T型缝隙的 垂直缝隙内还设有贴片电感;所述金属地板还具有方形缺角;

所述第一金属贴片和金属过孔一一对应,所述金属过孔的顶部 连接第一金属贴片,底部连接第二金属贴片;

所述同轴馈电结构的内芯连接在第二金属贴片的下方,并穿过 第二介质基板、第三金属贴片、第三介质板和第四介质板,所述同 轴馈电的内芯和第三金属贴片无接触。

进一步的,所述双T型缝隙包括两个水平缝隙和一个垂直缝隙, 其中一水平缝隙的长度长于另一水平缝隙的长度;所述垂直缝隙贯 穿其中一长水平缝隙的中间位置,并连接至另一短水平缝隙的中间 位置。

进一步的,所述螺旋缝隙为矩形状。

进一步的,所述第一介质基板、第二金属贴片、第三金属贴片、 第二介质基板、第三介质基板和第四介质基板的几何中心均与金属 地板的几何中心投影重合。

进一步的,所述金属过孔偏离于第一金属贴片的几何中心。

进一步的,所述同轴馈电的内芯偏离于金属底板的几何中心。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第五十四研究所,未经中国电子科技集团公司第五十四研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110254503.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top