[发明专利]显示装置和制造显示装置的方法在审

专利信息
申请号: 202110239243.0 申请日: 2021-03-04
公开(公告)号: CN113363401A 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 刘俊优;芮秉大;吴爱利 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L33/58;H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 代理人: 李英艳;冯志云
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置 制造 方法
【说明书】:

本公开涉及显示装置和制造显示装置的方法,所述显示装置包括:光传感器层,配置为接收从外部物体反射的光;基底,位于所述光传感器层上;光学图案层,位于所述基底上,所述光学图案层包括遮光部分以及与在一个方向上贯穿所述遮光部分的开口对应的透光部分;滤光器,位于所述光学图案层的所述透光部分中;以及发光器件层,位于所述光学图案层上。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2020年3月6日在韩国知识产权局提交的第10-2020-0028581号韩国专利申请的优先权和权益,该韩国专利申请的全部公开内容通过引用包含于此。

技术领域

本公开的方面一般地涉及包括光传感器的显示装置和制造显示装置的方法。

背景技术

随着信息社会的发展,对用于显示图像的显示装置的需求已经以各种形式增长。例如,显示装置已经应用于诸如智能电话、数码相机、笔记本计算机、导航系统和智能电视的各种电子装置。

近来,已经研究和开发了用于将用于识别指纹等的生物传感器与占据显示装置中的最大面积的显示面板集成和一体化的技术。

在本背景技术部分中公开的上述信息用于增强对本公开的背景的理解,并且因此,上述信息可能包含不构成现有技术的信息。

发明内容

本公开的一个或多个示例实施例涉及具有光学结构的显示装置,在所述光学结构中,具有准直器阵列结构的光学图案层和用于阻止具有特定波长的光的传送的滤光器彼此一体化。

本公开的一个或多个示例实施例涉及制造显示装置的方法。

根据本公开的一个或多个示例实施例,一种显示装置包括:光传感器层,配置为接收从外部物体反射的光;基底,位于所述光传感器层上;光学图案层,位于所述基底上,所述光学图案层包括遮光部分以及与在一个方向上贯穿所述遮光部分的开口对应的透光部分;滤光器,位于所述光学图案层的所述透光部分中;以及发光器件层,位于所述光学图案层上。

在示例实施例中,所述滤光器可以包括具有彼此不同的折射率的至少两个滤波器层。

在示例实施例中,所述滤光器可以包括:第一滤波器层,具有第一折射率;和第二滤波器层,具有与所述第一折射率不同的第二折射率,并且所述第一滤波器层和所述第二滤波器层可以交替地堆叠在彼此上。

在示例实施例中,所述第一滤波器层和所述第二滤波器层中的每一个可以包括八个堆叠层或更多个堆叠层。

在示例实施例中,所述第一滤波器层和所述第二滤波器层可以包括彼此不同的无机材料。

在示例实施例中,所述第一折射率和所述第二折射率之间的差可以大于0.3。

在示例实施例中,所述第一滤波器层可以包括氧化硅,并且所述第二滤波器层可以包括氧化钛。

在示例实施例中,所述滤光器的厚度可以小于或等于所述遮光部分的厚度。

在示例实施例中,所述显示装置还可以包括:透明层,位于所述滤光器的上部和下部中的至少一者处,并且所述透明层可以被填充在所述透光部分中。

在示例实施例中,所述滤光器的顶表面和所述基底之间的距离可以小于或等于所述遮光部分的顶表面和所述基底之间的距离。

在示例实施例中,所述滤光器可以配置为阻止具有大于或等于580nm的波长的光透射穿过所述光传感器层。

在示例实施例中,所述第一滤波器层的侧表面和所述第二滤波器层的侧表面可以与所述遮光部分的侧表面直接接触。

在示例实施例中,所述光学图案层可以包括光学准直器阵列,并且所述光学图案层可以配置为将所述反射的光传送到所述光传感器层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110239243.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top