[发明专利]储能件和储能件的制造方法有效

专利信息
申请号: 202110183722.5 申请日: 2021-02-10
公开(公告)号: CN112928270B 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 华斌;陈巍伟 申请(专利权)人: 维沃移动通信有限公司
主分类号: H01M4/38 分类号: H01M4/38;H01M4/134;H01M10/0525;H01M10/058;H01M4/1395
代理公司: 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 代理人: 汪海屏;王淑梅
地址: 523863 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 储能件 制造 方法
【说明书】:

本申请公开了一种储能件和储能件的制造方法,储能件包括:多个储能单元,储能单元包括:硅材料框架;电解质层,位于硅材料框架内,电解质层与硅材料框架相贴合;正极集流体,位于硅材料框架的第一端;负极集流体,与正极集流体相对设置,负极集流体位于硅材料框架的第二端;其中,电解质层、正极集流体和负极集流体围合形成腔体,腔体内填充有正极材料,其中正极及流体与正极材料相接触,负极集流体与正极材料相绝缘。本申请实施例提高了电池内部的空间利用率,有利于提高单位体积下的能量密度。

技术领域

本申请属于电池技术领域,具体涉及一种储能件和储能件的制造方法。

背景技术

相关技术中,手机、笔记本等电子产品普遍采用锂电池作为储能设备,因此锂电池的能量密度成了制约电子产品发展的主要瓶颈之一。

目前的利电子采用钴酸锂(LiCoO2)/石墨(C)体系,该体系中,石墨材料本身的理论储锂容量(372mAh/g)限制了电池容量的提升,导致电池的能量密度低。

因此,如何设计一种能够提高容量的电池体系,是目前亟待解决的技术问题。

发明内容

本申请旨在提供一种储能件和储能件的制造方法,能够提供一种高容量的电池体系。

第一方面,本申请实施例提出了一种储能件,包括:

多个储能单元,储能单元包括:

硅材料框架;

电解质层,位于硅材料框架内,电解质层与硅材料框架相贴合;

正极集流体,位于硅材料框架的第一端;

负极集流体,与正极集流体相对设置,负极集流体位于硅材料框架的第二端;

其中,电解质层、正极集流体和负极集流体围合形成腔体,腔体内填充有正极材料,其中正极及流体与正极材料相接触,负极集流体与正极材料相绝缘。

第二方面,本申请实施例提出了一种储能件的制造方法,包括:

对硅晶体基材进行蚀刻处理,以在硅晶体基材的第一侧上形成多个凹槽单元;

在凹槽单元内填充正极材料;

在硅晶体基材的第一侧沉积负极集流体;

在硅晶体基材的第二侧沉积正极集流体;

对硅晶体基材进行封装,以得到储能件。

第三方面,本申请实施例提出了一种储能件的制造装置,包括:

蚀刻模块,用于对硅晶体基材进行蚀刻处理,以在硅晶体基材的第一侧上形成多个凹槽单元;

填充模块,用于在凹槽单元内填充正极材料;

沉积模块,用于在硅晶体基材的第一侧沉积负极集流体;和

在硅晶体基材的第二侧沉积正极集流体;

封装模块,用于对硅晶体基材进行封装,以得到储能件。

第四方面,本申请实施例提出了一种可读存储介质,其上存储有程序或指令,程序或指令被处理器执行时实现如第二方面的方法的步骤。

在本申请的实施例中,储能件即电池,储能件由多个储能单元构成,其中,每个储能单元均包括硅材料框架,硅材料框架的内侧贴合有电解质层,其中,硅材料框架为桶型结构,电解质层贴合在框架的内表面后也形成为一个桶字型结构。

于是,硅材料框架和电解质层连接后,使得储能单元在截面上构成了一个“二”字型的结构,在该结构两端的“开口”处,分别覆盖有正极集流体和负极集流体,最终形成为一个“口”字型结构。

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