[发明专利]一种环形图案的光学邻近效应校正方法有效
申请号: | 202110034006.0 | 申请日: | 2021-01-11 |
公开(公告)号: | CN112859536B | 公开(公告)日: | 2023-08-11 |
发明(设计)人: | 杨尚;韦亚一;张利斌 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人: | 刘广达 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 环形 图案 光学 邻近 效应 校正 方法 | ||
本发明公开了一种环形图案的光学邻近效应校正方法,方法包括:将设计版图源文件转化为数字图像;判断数字图像中是否有封闭的环形图案;若有,则获取环形图案的外轮廓对应的外轮廓图案以及环形图案的内轮廓对应的内轮廓图案;对外轮廓图案和内轮廓图案进行光学邻近效应校正;将校正后的外轮廓图案和校正后的内轮廓图案写入版图文件并进行组合。通过分离出环形图案的外轮廓图案和内轮廓图案进行校正,由于外轮廓图案和内轮廓图案均为非环形图案,因此在将校正后的外轮廓图案和内轮廓图案写入gds格式的版图文件中时,不会由于坐标顺序的问题出现写入错误的问题,最后在版图文件中,通过对外轮廓图案和内轮廓图案进行组合,以得到校正后的环形图案。
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域,具体涉及一种环形图案的光学邻近效应校正方法。
背景技术
直写技术(例如激光直写、电子束直写)区别于传统光刻技术,其具有无需掩模,加工灵活,对基底表面平整度要求较低的优势。但是由于激光束或电子束能量多为高斯分布,其能量分布特性容易引起一系列的图案畸变(例如线尾缩短、边角圆化、疏密线条不均等问题),因此需要进行光学邻近效应校正,以对畸变进行校正。
基于模型仿真的邻近效应校正方法可以准确解决邻近畸变的问题,但是通常微电子领域的设计版图文件为gds格式,这是一种矢量图片格式,本质上是通过坐标的顺序表达,如果版图文件中有封闭的环形图案,在借助矩阵仿真进行校正后,由于环形图案对于gds文件来说有无数种首尾位置和多种方向,因此在将以矩阵形式表示的环形图案写入gds文件时会出现错误。
发明内容
本发明的目的是针对上述现有技术的不足提出的一种环形图案的光学邻近效应校正方法,以解决将校正后的环形图案写入gds文件出现错误的问题。
为实现上述目的,本发明提供了一种环形图案的光学邻近效应校正方法,所述方法包括:
将设计版图源文件进行数字化处理,以得到数字图像;
判断所述数字图像中是否有封闭的环形图案;
若有,则获取所述环形图案的外轮廓对应的外轮廓图案以及所述环形图案的内轮廓对应的内轮廓图案,所述外轮廓图案和所述内轮廓图案均为非环形图案;
分别对所述外轮廓图案和所述内轮廓图案进行光学邻近效应校正;
将校正后的外轮廓图案和校正后的内轮廓图案写入版图文件并进行组合。
可选的,所述判断所述数字图像中是否有封闭的环形图案,可包括:对所述数字图像进行连通域标号,以生成标号集合;根据所述标号集合判断所述数字图像中是否有封闭的环形图案。
可选的,所述根据所述标号集合判断所述数字图像中是否有封闭的环形图案,可包括:若所述标号集合中存在大于预设数值的标号,则确定所述数字图像中有封闭的环形图案;若所述标号集合中不存在大于预设数值的标号,则确定所述数字图像中没有封闭的环形图案。
可选的,所述获取所述环形图案的外轮廓对应的外轮廓图案,可包括:从所述数字图像中获取所述外轮廓对应的区域图像,所述区域图像包含所述内轮廓;在所述区域图像中,利用图案像素填充所述内轮廓包围的区域,以得到外轮廓图案。
可选的,所述获取所述环形图案的内轮廓对应的内轮廓图案,可包括:在所述数字图像中,利用图案像素填充所述内轮廓包围的区域,并利用背景像素填充所述内轮廓之外的区域,以得到内轮廓图案。
可选的,所述将校正后的外轮廓图案和校正后的内轮廓图案进行组合并写入版图文件,可包括:将校正后的外轮廓图案和校正后的内轮廓图案分别以两个图层写入版图文件;对所述两个图层做相减布尔运算。
可选的,所述数字图像为二值化图像。
基于上述所述的环形图案的光学邻近效应校正方法,具有如下有益效果:
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