[实用新型]一种耐高温多弧离子真空镀膜机有效
申请号: | 202021874404.0 | 申请日: | 2020-09-01 |
公开(公告)号: | CN213596384U | 公开(公告)日: | 2021-07-02 |
发明(设计)人: | 李维林 | 申请(专利权)人: | 视睿光学科技(东莞)有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 深圳科湾知识产权代理事务所(普通合伙) 44585 | 代理人: | 杨艳霞 |
地址: | 523000 广东省东莞市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 耐高温 离子 真空镀膜 | ||
本实用新型提供一种耐高温多弧离子真空镀膜机,涉及真空镀膜技术领域。该耐高温多弧离子真空镀膜机,包括底座,底座底部固定连接有减震支撑腿,减震支撑腿内部套接有限位套筒,限位套筒内壁的底部固定连接有减震弹簧,减震弹簧顶部固定连接有固定托盘,底座上表面套接有减震杆且减震杆底部与固定托盘固定连接,底座内部设置有减震块,减震块内部设置有第一减震磁铁,第一减震磁铁底部固定连接有第二减震磁铁,底座上表面固定连接有真空镀膜室。该耐高温多弧离子真空镀膜机,通过减震弹簧、第一减震磁铁和第二减震磁铁的配合使用,解决了现有真空镀膜机大部分减震效果都不是很好,或多或少影响了质量和效率的问题。
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜技术领域,具体为一种耐高温多弧离子真空镀膜机。
背景技术
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD 激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。相对普通的离子镀镀膜机,多弧离子镀膜沉积速率快、效率高。采用数控的真空镀膜机加工质量稳定,减少劳动力。
温度是多弧离子真空镀膜中影响成品质量的的一个重要因素,现有真空镀膜机内的温度不均匀,进而影响成品质量,且现有真空镀膜机大部分减震效果都不是很好,或多或少影响了质量和效率,使用起来十分麻烦。
实用新型内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种耐高温多弧离子真空镀膜机,解决了上述背景技术中提到的现有真空镀膜机内的温度不均匀,进而影响成品质量,且现有真空镀膜机大部分减震效果都不是很好,或多或少影响了质量和效率,使用起来十分麻烦的问题。
(二)技术方案
为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种耐高温多弧离子真空镀膜机,包括底座,所述底座底部固定连接有减震支撑腿,所述减震支撑腿内部套接有限位套筒,所述限位套筒内壁的底部固定连接有减震弹簧,所述减震弹簧顶部固定连接有固定托盘,所述底座上表面套接有减震杆且减震杆底部与固定托盘固定连接,所述底座内部设置有减震块,所述减震块内部设置有第一减震磁铁,所述第一减震磁铁底部固定连接有第二减震磁铁,所述底座上表面固定连接有真空镀膜室,所述真空镀膜室外表面一侧固定连接有安装门,所述安装门外表面远离真空镀膜室的一侧固定连接有把手,所述安装门外表面一侧固定连接有控制装置,所述控制装置内部设置有气压表,所述控制装置内部且位于气压表一侧固定连接有操控按键,所述真空镀膜室外表面一侧固定连接有多弧靶组件,所述真空镀膜室顶部固定连接有旋转电机,所述旋转电机底部活动连接有旋转轴且位于真空镀膜室内部,所述旋转轴外表面套接有第一转盘,所述旋转轴外表面套接有第二转盘且位于第一转盘下方,所述第一转盘底部和第二转盘顶部均固定连接有加热器,所述旋转轴外表面套接有旋转工架且位于第一转盘与第二转盘之间,所述真空镀膜室顶部固定连接有抽气管且位于旋转电机一侧,所述抽气管远离真空镀膜室的一端与抽气泵固定连接,所述抽气泵底部固定连接有真空装置。
优选的,所述减震支撑腿的数量为四个,均匀分布在底座的四角。
优选的,所述减震块的数量为两个,且都嵌接在底座内部。
优选的,所述旋转电机和抽气泵都与控制装置电性连接,且控制装置与外部电源线性连接。
优选的,所述多弧靶组件的数量为四个,且分布在真空镀膜室外表面的两侧。
优选的,所述加热器的数量为四个,两两分布在第一转盘底部和第二转盘顶部,且都与控制装置电性连接。
(三)有益效果
本实用新型提供了一种耐高温多弧离子真空镀膜机。具备以下有益效果:
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