[发明专利]真空镀膜控制系统及其控制方法、真空镀膜设备

说明书

本申请涉及一种真空镀膜控制系统及其控制方法、真空镀膜设备，其中该真空镀膜控制系统，应用于真空镀膜设备中，包括：工控机以及光谱测试仪；所述光谱测试仪安装在真空镀膜设备的真空室内部，所述工控机与所述光谱测试仪通讯连接；所述光谱测试仪用于在真空镀膜设备镀膜过程中实时检测目标产品成膜的光谱参数并发送至所述工控机；所述工控机用于依据保存的功率误差校验曲线校正真空镀膜设备的输出功率，以及将所述光谱参数与预设的光谱参考值进行比较并修正所述功率误差校验曲线。该技术方案能够实现自动化的监测和校正，找出最合适的输出功率，以提升镀膜效果，而且可以获取到更加精准的输出功率值。

技术领域

本申请涉及离子源技术领域，具体而言，本申请涉及一种真空镀膜控制系统及其控制方法、真空镀膜设备。

背景技术

真空镀膜设备是一类需要在较高真空度下进行镀膜的设备，主要包括蒸发和溅射两种，具体可以包括真空例子蒸发、磁控溅射、MBE分子外延、PLD激光溅射沉积等。

由于需要较高真空度，真空镀膜设备需要设置严密的真空室，由于镀膜过程真空要求，现有技术中，基本上都是根据设定好的控制程式去控制整个镀膜过程，当需要对镀膜控制程式进行调整时，一般是在镀膜完成后，把产品拿出来用光谱测试仪进行测试，检测镀膜光谱参数是否符合预定值，如果不符合预定值再对镀膜控制程式进行调整参数，通过如此多次测试以获得较为合适的控制程式；这种技术操作复杂，准确性低，效率低。

发明内容

本申请的目的旨在解决上述的技术缺陷之一，提供一种真空镀膜控制系统及其控制方法、真空镀膜设备。

为了实现上述目的，本申请提供以下技术方案：

本申请还提供一种真空镀膜控制系统，应用于真空镀膜设备中，该系统包括：工控机以及光谱测试仪；

所述光谱测试仪安装在真空镀膜设备的真空室内部，所述工控机与所述光谱测试仪通讯连接；

所述光谱测试仪用于在真空镀膜设备镀膜过程中实时检测目标产品成膜的光谱参数并发送至所述工控机；

所述工控机用于依据保存的功率误差校验曲线校正真空镀膜设备的输出功率，以及将所述光谱参数与预设的光谱参考值进行比较并修正所述功率误差校验曲线。

在一个实施例中，所述光谱测试仪用于在真空镀膜设备镀膜过程中实时监测目标产品的成膜状态，并检测所述目标产品成膜的全频段光谱参数；

所述工控机用于校正真空镀膜设备在每段镀膜区间的输出功率。

在一个实施例中，所述光谱测试仪用于检测所述目标产品成膜的透过率和/或反射率。

在一个实施例中，所述工控机还通过网络连接云端平台；

所述工控机还用于向所述云端平台上传所述光谱参数和/或功率误差校验曲线，以及接受所述云端平台的监控。

在一个实施例中，所述工控机与所述光谱测试仪通过USB连接进行通讯连接。

本申请还提供一种真空镀膜控制方法，应用于真空镀膜设备的工控机中，该方法包括：

读取预先保存的功率误差校验曲线，并根据所述功率误差校验曲线校正真空镀膜设备的输出功率；

接收光谱测试仪在真空镀膜设备镀膜过程中实时检测目标产品成膜的光谱参数；其中，所述光谱测试仪安装在真空镀膜设备的真空室内部；

将所述光谱参数与预设的光谱参考值进行比较并修正所述功率误差校验曲线，保存所述功率误差校验曲线用于下一次镀膜过程使用。

在一个实施例中，根据所述功率误差校验曲线校正真空镀膜设备的输出功率，包括：

分别提取在每段镀膜区间对应的功率误差校验曲线；