[发明专利]一种磁共振动态匀场方法有效

专利信息
申请号: 202010056040.3 申请日: 2020-01-17
公开(公告)号: CN111157931B 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 罗海;王文周;朱高杰;陈梅泞;黄攀;王世杰;蒋辉;刘霞 申请(专利权)人: 奥泰医疗系统有限责任公司
主分类号: G01R33/387 分类号: G01R33/387
代理公司: 成都高远知识产权代理事务所(普通合伙) 51222 代理人: 曾克
地址: 610000 四川省*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 磁共振 动态 方法
【说明书】:

发明公开一种磁共振动态匀场方法,包括依次执行的以下步骤:步骤1、进行静态主动匀场,去除全空间的一阶B0场成分;步骤2、采集三维B0场数据;步骤3、通过采集的三维B0场数据计算出残余的高阶B0场分布;步骤4、逐层拟合层面内的一阶B0场并由此计算层面内两个方向的动态匀场参数;步骤5、从残余的高阶B0场分布中,扣除模拟施加了步骤4中的动态匀场分量,获得残留的高阶B0场;步骤6、对残留的高阶B0场进行相位解卷绕运算;步骤7、逐层计算0阶场,并计算出垂直于层面方向的动态匀场参数;步骤8、在扫描中逐层施加动态匀场参数。本发明针对高阶B0场较大的磁共振系统,匀场算法更稳定可靠,可以确保空间其他位置磁场波动较小。

技术领域

本发明涉及核磁共振成像技术领域,尤其涉及一种磁共振动态匀场方法。

背景技术

在磁共振成像系统中,主磁场的均匀性是磁共振图像质量的关键因素。主磁场的非均匀性会导致磁敏感伪影、压脂效果差、图像变形甚至伪影等。因此,通常采用匀场措施改善特定范围内的磁场均匀性。

匀场措施通常包括被动匀场和主动匀场。被动匀场一般通过在磁体内的特定位置放置铁片,是在安装磁体过程中提高磁场均匀性的第一措施。主动匀场是通过调整匀场线圈内的电流,产生特定分布的磁场来抵消主磁场的非均匀性。从匀场线圈的形式上,主动匀场可分为一阶匀场和高阶匀场。高阶匀场需要配置专用高阶匀场线圈,产生空间上呈二阶或更高阶分布的局部磁场,可以抵消主磁场中的高阶分量。而在一些低成本磁共振设备上,不提供高阶匀场线圈,因此只能由梯度线圈实现一阶匀场。在一阶或高阶静态匀场的基础上,主磁场仍然存在局部非均匀性,进一步的,在磁共振二维成像或者三维分块成像中,可以对每一层或者块进行单独的匀场,从而进一步改善主磁场。这种方式一般称为动态匀场或片层匀场。

如图1所示,现有技术的动态匀场主要包括如下过程:

第一步,完成常规的一阶或高阶静态匀场;

第二步,通过双回波GRE序列或者DESS(双回波稳态自由进动序列)采集成像区域的图像,并由此计算出成像区域的B0场分布图;

第三步,根据当前二维成像扫描序列的几何位置,逐层取出该层面的B0场分布图,计算出三个方向的一阶分量进而得到每层的动态匀场参数;

第四步,在扫描过程中,在激发/采集各个片层信号之前,按第三步所得匀场参数快速切换一阶匀场电流,使得该层面B0场处于较好状态。

在一些磁共振设备上,当完成了常规主动匀场后,仍然残留较大的高阶B0场。例如在一些低成本磁共振设备上,不提供高阶匀场线圈,会有较大高阶B0场,如Z2二阶场。

按现有动态匀场技术,基于B0场分布的一阶导数逐层计算动态匀场参数,会导致两个问题:

1)求导运算会放大噪声,降低匀场可靠性。

2)由于较大的高阶场存在,其一阶导数与距离磁体中心距离成正比或者(n-1)次方成正比,即在磁体中心层面和远离磁体中心的层面的匀场参数相差很大,也就是说当某一层施加了动态匀场后,该时刻其他层面可能会处于极不匀的状态,如果这个时候施加了非空间选择性脉冲,会破坏其他层面的状态。例如施加化学位移频率选择压脂脉冲,会影响脂肪的稳态过程降低压脂效果,亦可能会激发到其他层面的水成分,从而导致伪影或者降低信噪比。

发明内容

本发明旨在提供一种磁共振动态匀场方法,针对高阶B0场较大的磁共振系统,匀场算法更稳定可靠,且在对某一层面施加动态匀场时,可以确保空间其他位置磁场波动较小,从而改善成像质量。

为达到上述目的,本发明是采用以下技术方案实现的:

本发明公开一种磁共振动态匀场方法,包括依次执行的以下步骤:

步骤1、进行静态主动匀场,去除全空间的一阶B0场成分;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥泰医疗系统有限责任公司,未经奥泰医疗系统有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010056040.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top