[发明专利]一种成盐反应器及制备异氰酸酯的方法

权利要求书

1.一种成盐反应器，其特征在于，所述反应器包括釜体(1)、溶剂进料管(20)、液相进料管(2)、气相进料管(4)、机械搅拌单元(6)、粗盐系统(7)、圆盘分布器(8)、搅拌桨(11)、导流器（15）和精盐系统(18)；所述釜体（1）的顶部设有气相出料口（13）、底部设有液相出料口（12）；所述圆盘分布器（8）为多孔板，在所述釜体（1）的中部通过其边沿连接至所述釜体（1）的内壁；所述溶剂进料管（20）穿过所述釜体（1）延伸至所述圆盘分布器（8）的上方；所述机械搅拌单元（6）包括呈中空结构的转轴（17）和固定至所述转轴（17）的搅拌桨（11），所述搅拌桨（11）设置在圆盘分布器（8）的上方；

所述粗盐系统(7)设置在釜体（1）内搅拌桨（11）的上方，包括圆筒形多孔板（14）、设置在所述圆筒形多孔板（14）上端的液相进料分布器(3)和设置在所述圆筒形多孔板（14）下端的气相进料分布器(5)；所述液相进料管（2）穿过所述釜体（1）的顶部沿所述转轴（17）的中空结构延伸并连接至所述液相进料分布器（3），所述气相进料管（4）穿过所述釜体（1）的底部沿所述转轴（17）的中空结构延伸并连接至所述气相进料分布器（5）；

所述精盐系统(18)包括旋转研磨筒(9)和磨片(10)；其中旋转研磨筒(9)通过穿过所述导流器(15)和圆盘分布器(8)的转轴 (17)同轴连接至粗盐系统（7）的底部以转轴(17)旋转；所述旋转研磨筒(9)的侧壁上设有多个均匀分布的刮刀（19）；所述磨片（10）呈圆筒形与所述旋转研磨筒（9）同轴设置在所述旋转研磨筒（9）与釜体（1）之间，且其内表面与所述刮刀（19）的刃部相接触；

所述导流器(15)呈伞形并同轴设置于所述圆盘分布器（8）与旋转研磨筒(9)之间，通过L形支撑(16)固定至所述圆盘分布器（8）上。

2.根据权利要求1所述的反应器，其特征在于，所述圆筒形多孔板（14）的直径为釜体(1)直径的1/3~2/3，开孔直径1~50μm，开孔率30~90%；

所述圆盘分布器(8)的开孔直径为1~30μm，开孔率30~90%。

3.根据权利要求2所述的反应器，其特征在于，所述圆筒形多孔板（14）的开孔直径10~30μm，开孔率50~80%；

所述圆盘分布器(8)的开孔直径为5~20μm，开孔率50~80%。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的反应器，其特征在于，所述圆盘分布器(8)上表面和/或所述圆筒形多孔板（14）上设有多个均匀分布的镂空研磨块；所述圆筒形多孔板（14）上设置的镂空研磨块在所述圆筒形多孔板（14）的内壁和/或外壁上；

所述镂空研磨块为空壳结构，其壳体上设有多个开孔，并且所述镂空研磨块通过其壳体的下边沿固定至圆盘分布器(8)和/或圆筒形多孔板（14）上。

5.根据权利要求4所述的反应器，其特征在于，所述壳体上的开孔率为50~80%，所述壳体呈空心的锥体形、三角体形、圆柱体形、长方体形，高度为1~10cm。

6.根据权利要求4所述的反应器，其特征在于，所述圆筒形多孔板(14)高度与圆盘分布器(8)距釜体（1）顶部的距离之比为1:2~1:8。

7.根据权利要求6所述的反应器，其特征在于，所述壳体高度为3~6cm；

所述圆筒形多孔板(14)高度与圆盘分布器(8)距釜体（1）顶部的距离之比为1:4~1:6。

8.根据权利要求1-3和5-7中任一项所述的反应器，其特征在于，所述旋转研磨筒(9)直径为釜体（1）直径2/3~4/5；所述刮刀(19)沿轴向固定于旋转研磨筒（9）上，且所述刮刀（19）从其刃部到其固定端在所述磨片（10）内表面朝旋转方向倾斜。

9.根据权利要求8所述的反应器，其特征在于，所述刮刀（19）的倾斜角度为20-80°；所述刮刀（19）数量为6-20把。