[发明专利]透射电子显微镜图像畸变的表征方法及表征装置

权利要求书

1.一种透射电子显微镜图像畸变的表征方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一样品；

形成2个第一通孔组，每个所述第一通孔组包括两个贯穿所述样品的第一通孔，四个所述第一通孔围绕形成一四边形，每一所述第一通孔组内的两个所述第一通孔之间的连线为所述四边形的一条对角线；

获取所述样品在一第一参考倍率下的第一透射电子显微镜图像、以及一待表征的第一目标倍率下的第二透射电子显微镜图像，所述第一目标倍率低于所述第一参考倍率；

获取所述第一透射电子显微镜图像中每一第一通孔组内的两个所述第一通孔之间的第一参考距离、以及所述第二透射电子显微镜图像中每一第一通孔组内的两个所述第一通孔之间的第一目标距离；

采用如下公式计算所述第一目标倍率下的透射电子显微镜图像相对于所述第一参考倍率下的透射电子显微镜图像的畸变度β₁：

β₁＝(A₀B₁/A₁B₀-1)×100％；

式中，A₀为所述第一透射电子显微镜图像中一个所述第一通孔组内的两个所述第一通孔之间的距离，B₀为所述第一透射电子显微镜图像中另一个所述第一通孔组内的两个所述第一通孔之间的距离，A₁为所述第二透射电子显微镜图像中一个所述第一通孔组内的两个所述第一通孔之间的距离，B₁为所述第二透射电子显微镜图像中另一个所述第一通孔组内的两个所述第一通孔之间的距离。

2.根据权利要求1所述的透射电子显微镜图像畸变的表征方法，其特征在于，所述样品为单晶硅样品；形成多个第一通孔组之前，还包括如下步骤：

获取所述单晶硅样品在所述第一参考倍率下的第三透射电子显微镜图像；

根据所述第三透射电子显微镜图像判断所述第一参考倍率下的透射电子显微镜图像的畸变度是否小于或等于第一预设值，若否，则对透射电子显微镜进行调试。

3.根据权利要求2所述的透射电子显微镜图像畸变的表征方法，其特征在于，根据所述第三透射电子显微镜图像判断所述第一参考倍率下的透射电子显微镜图像的畸变度是否小于或等于第一预设值之前，还包括如下步骤：

所述第三透射电子显微镜图像为所述单晶硅样品在[110]带轴下的图像；

获取所述第三透射电子显微镜图像中(1-11)晶面间距d₁和(-111)晶面间距d₂，并采用如下公式计算所述第一参考倍率下的透射电子显微镜图像的畸变度β₀：

β₀＝(d₁/d₂-1)×100％。

4.根据权利要求2所述的透射电子显微镜图像畸变的表征方法，其特征在于，所述第一预设值为0.5％。

5.根据权利要求1所述的透射电子显微镜图像畸变的表征方法，其特征在于，形成多个第一通孔组的具体步骤包括：

根据所述第一参考倍率与待表征的所述第一目标倍率之间的比例关系，调整所述第一通孔组内的两个所述第一通孔之间的距离。

6.根据权利要求1所述的透射电子显微镜图像畸变的表征方法，其特征在于，形成多个第一通孔组的具体步骤包括：

采用聚焦电子束辐照所述样品，形成多个所述第一通孔组。

7.根据权利要求1所述的透射电子显微镜图像畸变的表征方法，其特征在于，获取所述第一透射电子显微镜图像中每一第一通孔组内的两个所述第一通孔之间的第一参考距离的具体步骤包括：

获取所述第一透射电子显微镜图像中每一第一通孔组内的两个所述第一通孔圆心之间的距离作为所述第一参考距离。