[发明专利]硅片生产过程的控制系统有效
申请号: | 201911334090.7 | 申请日: | 2019-12-23 |
公开(公告)号: | CN110970530B | 公开(公告)日: | 2021-07-02 |
发明(设计)人: | 左国军;张浩;万红朝 | 申请(专利权)人: | 常州捷佳创精密机械有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67 |
代理公司: | 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 | 代理人: | 汪海屏;刘潇 |
地址: | 213133 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 硅片 生产过程 控制系统 | ||
本发明提供了硅片生产过程的控制系统。所述硅片生产过程的控制系统包括:硅片生产设备,适于生产硅片;生产管理系统,与所述硅片生产设备信号连接,适于采集所述生产管理系统的工艺数据,并为所述硅片分配身份信息;控制装置,与所述硅片生产设备和所述生产管理系统分别信号连接,在所述硅片进入所述硅片生产设备时接收来自所述生产管理系统的所述身份信息,并在所述硅片离开所述硅片生产设备时将所述身份信息上传至所述生产管理系统,以使得所述工艺数据与所述身份信息相互关联。本发明能够将每个硅片的身份信息和其工艺数据相互结合,以便对每个硅片的生产过程进行监控和记录。
技术领域
本发明涉及太阳能电池制造的技术领域,具体而言,涉及硅片生产过程的控制系统。
背景技术
近年来,太阳能作为清洁环保能源,在诸多领域得到了广泛地应用。硅片是太阳能光伏产业中最为普遍的元件,其在生产流程中需要进行多道工序处理,从而保证硅片的光电转换效果。
随着硅片制备技术的日趋成熟,本领域对硅片的质量要求也日益提高。其中,为了保证硅片的生产质量,并在生产过程中及时发现质量问题,并对相关生产环节进行调整或改善,是十分必要的。
有鉴于此,本领域需要一种能够对每个硅片在各个生产环节中的工艺数据进行获取和记录的技术。
发明内容
本发明旨在解决上述技术问题的至少之一。
为此,本发明的目的在于提供一种硅片生产过程的控制系统。
为实现本发明的目的,本发明的实施例提供了一种硅片生产过程的控制系统,包括:硅片生产设备,适于生产硅片;生产管理系统,与硅片生产设备信号连接,适于采集硅片的工艺数据,并为硅片分配身份信息;控制装置,与硅片生产设备和生产管理系统分别信号连接,在硅片进入硅片生产设备时接收来自生产管理系统的身份信息,并在硅片离开硅片生产设备时将身份信息上传至生产管理系统,以使得工艺数据与身份信息相互关联。
本实施例避免了在硅片制造设备内部设置传感器带来的硬件成本高、可实施性低的问题,亦避免了因在硅片的表面设置身份识别码而带来的硅片易损,产品合格率低的问题。本实施例通过为硅片设置和分配虚拟身份信息,可对每片硅片做单独的追踪和工艺数据记录,由此,便于监测和记录硅片在各个步骤或工序中的工艺参数数据,以便及时发现质量问题,并进行相应地调整或改善。
另外,本发明上述实施例提供的技术方案还可以具有如下附加技术特征:
上述技术方案中,在硅片进入硅片生产设备时,控制装置接收上料位置信息,根据上料位置信息获得预期下料位置信息,并将身份信息和预期下料位置信息相互关联;在硅片离开硅片生产设备时,控制装置接收下料位置信息,并将下料位置信息和预期下料位置信息相互比较,以确定用于上传至生产管理系统的身份信息。
在硅片进入硅片生产设备时,控制装置接收来自生产管理系统的身份信息和来自硅片生产设备的上料位置信息,并根据上料位置信息获得预期下料位置信息,进而,控制装置将身份信息和预期下料位置信息相互关联和存储。在硅片离开硅片生产设备时,控制装置首先将下料位置信息和预期下料位置信息相互比较,以确定用于上传至生产管理系统的身份信息,进而将身份信息上传至生产管理系统。由此,本实施例的控制装置可对每一片硅片的身份信息进行及时地获取和上传,从而准确地对每一片硅片的工艺参数进行获取的记录。
上述任一技术方案中,控制装置包括:第一缓存区域,适于存储身份信息;第二缓存区域,适于存储预期下料位置信息;其中,身份信息在第一缓存区域中的存储位置与预期下料位置信息在第二缓存区域中的存储位置一致,以使得身份信息和预期下料位置信息相互关联。
本实施例的目的在于在身份信息和预期下料位置信息分别储存于不同缓存区域的相同位置,以建立二者之间的关联,从而通过在硅片离开硅片生产设备时,将下料位置信息与预期下料位置信息进行比较,并根据预期下料位置信息获得与其对应的身份信息,并对该身份信息进行上传。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州捷佳创精密机械有限公司,未经常州捷佳创精密机械有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911334090.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:油酥烧饼自动制作机
- 下一篇:一种锂电池隔膜加工用双向拉伸设备
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的