[发明专利]一种非线性光学晶体锶锂硅硫及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 201911021567.6 申请日: 2019-10-25
公开(公告)号: CN110578173B 公开(公告)日: 2020-10-02
发明(设计)人: 武奎;杨亚 申请(专利权)人: 河北大学
主分类号: C30B29/46 分类号: C30B29/46;G02F1/355;C01B33/00;C30B1/10
代理公司: 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 代理人: 黄慧慧
地址: 071002 河北*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 非线性 光学 晶体 锶锂硅硫 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种锶锂硅硫化合物,其特征在于,化学式为SrLi2SiS4,分子量为257.83,其为无色透明的锶锂硅硫纯样,该锶锂硅硫化合物是锶锂硅硫晶体,为非中心对称结构单晶,属于四方晶系,空间群为I-42m,晶胞参数为a = b = 6.469(3) Å,c = 7.689(7) Å,α = β = γ =90°、Z = 2,单胞体积V = 321.8(4) Å3

2.权利要求1所述的锶锂硅硫化合物的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

(a)将摩尔比为1∶1~5∶1的SrS、Li2S和SiS2原料混合均匀,装入反应容器中,并在真空度为10-5~10-1 Pa的条件下抽真空后封口;

(b)将步骤(a)中密封好的反应容器放入高温烧结炉中,升温至400~700 ℃,保温7~15h;再升温至750~950 ℃,保温70~110 h;之后,冷却降至室温,即得锶锂硅硫化合物。

3.根据权利要求2所述的锶锂硅硫化合物的制备方法,其特征在于,步骤(a)中,在水含量、氧气含量为0.01~0.2 ppm的气密容器内称量SrS、Li2S和SiS2原料。

4.一种非线性光学晶体锶锂硅硫,其特征在于,化学式为SrLi2SiS4,分子量为257.83,其为无色透明的非中心对称结构单晶,空间群为I-42m,晶胞参数为a = b = 6.469(3) Å,c= 7.689(7) Å,α = β = γ = 90°、Z = 2,单胞体积V = 321.8(4) Å3

5.根据权利要求4所述的非线性光学晶体锶锂硅硫,其特征在于,所述晶体为四方晶系,以[LiS4]、[SiS4]和[SrS8]基团组成结构基元。

6.根据权利要求4所述的非线性光学晶体锶锂硅硫,其特征在于,所述非线性光学晶体锶锂硅硫为中远红外非线性光学晶体,其带隙为3.94 eV。

7.权利要求4所述的非线性光学晶体锶锂硅硫的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

(a)将摩尔比为1∶1~5∶1的SrS、Li2S和SiS2原料混合均匀,装入反应容器中,并在真空度为10-5~10-1 Pa的条件下抽真空后封口;

(b)将步骤(a)中密封好的反应容器放入高温烧结炉中,升温至400~700 ℃,保温7~15h;再升温至750~950 ℃,保温70~110 h;之后,冷却降至室温,即得非线性光学晶体锶锂硅硫。

8.根据权利要求7所述的非线性光学晶体锶锂硅硫的制备方法,其特征在于,在水含量、氧气含量为0.01~0.2 ppm的气密容器内称量SrS、Li2S和SiS2原料。

9.根据权利要求7所述的非线性光学晶体锶锂硅硫的制备方法,其特征在于,步骤(b)中,以20~40 ℃/h的升温速率升温至400~700 ℃;以25~40 ℃/h的升温速率升温至750~950℃。

10.权利要求4所述的非线性光学晶体锶锂硅硫在制备中远红外波段激光倍频晶体、红外通讯器件或红外激光制导器件中的应用。

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