[发明专利]一种电解蚀刻装置

权利要求书

1.一种电解蚀刻装置，包括反应单元(1)，反应单元(1)包括阴极(11)、阳极(12)、电解液，所述阳极(12)用导电夹头连接待蚀刻件，所述待蚀刻件的待蚀刻部分浸没在电解液中，其特征在于，包括数段电解槽(2)，阳极(12)在各段电解槽(2)之间移动，阴极(11)与电解槽(2)之间的相对位置保持不变，每个电解槽(2)内的电流大小各自对应控制不同蚀刻量。

2.根据权利要求1所述的电解蚀刻装置，其特征在于，所述阴极(11)为分设在所述阳极(12)两侧的一组,且一组所述阴极(11)在所述待蚀刻件两侧对称设置。

3.根据权利要求2所述的电解蚀刻装置，其特征在于，还包括用于提供电流的两台整流机(3)，两台所述整流机(3)分别与所述待蚀刻件的两个待蚀刻面以及至少一组所述阴极(11)连接。

4.根据权利要求3所述的电解蚀刻装置，其特征在于，所述待蚀刻件的待蚀刻面面积与该面上的总电流值的关系满足下述计算公式：

A＝S*J；式中，

A为待蚀刻面上总电流值；

S为待蚀刻面面积；

J为电流密度。

5.根据权利要求1-4任一项所述的电解蚀刻装置，其特征在于，所述反应单元(1)内所通电流值的计算方式为

A’＝S*J’*a，式中，

A’为所述反应单元(1)内的所通电流值，

S为待蚀刻面面积，

J’为电流密度，为恒定值，

a为0～100％范围内一电解效率值。

6.根据权利要求1-5任一项所述的电解蚀刻装置，其特征在于，所述阴极(11)和待蚀刻件之间设有遮蔽组件(4)，所述遮蔽组件(4)用于减缓阴极(11)端部和待蚀刻件端部之间的电解液流量。

7.根据权利要求1-6任一项所述的电解蚀刻装置，其特征在于，还包括阴极距离调节单元，所述阴极距离调节单元包括：

夹持机构(51)，用于夹持阴极件；

调节机构(52)，与所述夹持机构(51)连接，用于驱动所述夹持机构(51)朝向或远离所述阳极(12)运动。

8.根据权利要求7所述的电解蚀刻装置，其特征在于，还包括：

第一支撑座(521)，设于反应单元(1)顶部相对的两端，所述第一支撑座(521)上设有若干用于限位阴极件沿待蚀刻件运动方向两端端部的安装槽(522)；

还包括第二支撑座(523)，设于反应单元(1)顶部的第一支撑座(521)之间，所述第二支撑座(523)顶部设有间隔布置的至少两个卡槽(524)，卡槽(524)排布由阴极(11)指向阳极(12)，任一所述卡槽(524)供被夹持件避开所述夹持机构(51)的位置卡接。

9.根据权利要求1-8任一项所述的电解蚀刻装置，其特征在于，还包括横喷单元(6)，所述横喷单元(6)包括：

多个喷管(61)，沿所述电解液的深度方向依次平行分布，且喷口(611)朝向所述待蚀刻件设置；

阀门组(62)，所述阀门组(62)包括：

手动阀(622)，设于喷管(61)端部，与喷管(61)连通，用于调节单位时间内电解液的流量；

电磁阀(621)，设于喷管(61)端部靠近手动阀(622)处，与手动阀(622)和喷管(61)连通，用于调节电解液流动的通断；

手动阀(622)和电磁阀(621)之间并联或串联设置。

10.根据权利要求9所述的电解蚀刻装置，其特征在于：任一并联结构中的电磁阀(621)所在管路上设有至少两处球阀，球阀位于电磁阀(621)两端。

11.根据权利要求1-10任一项所述的电解蚀刻装置，其特征在于，还包括液位调节单元，所述液位调节单元包括：

液位计(7)，设于电解液中，用于测量电解液液面高度并在所述液面高度低于预设高度时输出补液信号，

控制中心，用于接收液位计(7)的补液信号并控制泵浦补给电解液。