[发明专利]一种宽动态真空检漏装置在审
| 申请号： | 201910769918.5 | 申请日： | 2019-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN110895179A | 公开（公告）日： | 2020-03-20 |
| 发明（设计）人： | 严奉轩;王文锦;李芳;路晓川;龙希伟;赵巍仑;赵加鹏;孙喜堂;凌大鹏;陈宁;韩京 | 申请（专利权）人： | 中国船舶重工集团公司第七一八研究所 |
| 主分类号： | G01M3/20 | 分类号： | G01M3/20 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 刘芳;仇蕾安 |
| 地址： | 056027*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 动态 真空 检漏 装置 | ||
1.一种宽动态真空检漏装置，其特征在于：所述检漏装置包括真空规、示踪气体源、离子源进样单元、QMS单元、真空腔室以及高精度控制回路；
离子源进样单元包括电离室(2)、阳极(3)、灯丝(7)、磁铁(1)和离子束透镜电极(5)；电离室(2)上加工有进样口(4)和离子出口(8)，阳极(3)穿过电离室(2)并固定安装在电离室(2)的上端，灯丝(7)位于电离室(2)内部，磁铁(1)置于电离室(2)的外部，四个离子束透镜电极(5)按照上下顺序安装在电离室(2)下端的离子出口(8)；
高精度控制回路包括电源单元和数据处理单元；
真空规、示踪气体源以及电离室(2)的进样口(4)分别与被检真空件连接，电离室(2)的离子出口(8)与QMS单元的信息采集端连接，阳极(3)分别与电源单元和数据处理单元连接，QMS单元的信息输出端与数据处理单元连接，离子源进样单元和QMS单元放置在真空腔室内；
其中，被检真空件为中真空或高真空时，电源单元向阳极(3)输出低电压；被检真空件为超高真空时，电源单元向阳极(3)输出高电压。
2.根据权利要求1所述的宽动态真空检漏装置，其特征在于：在电离室(2)的内表面制备一层氧化钛涂层。
3.根据权利要求1所述的宽动态真空检漏装置，其特征在于：灯丝(7)和离子束透镜电极(5)的材料选用α+β钛合金。
4.根据权利要求1所述的宽动态真空检漏装置，其特征在于：示踪气体源中的示踪气体选用氦气、氢气、氟利昂或四氯化碳。
5.根据权利要求1所述的宽动态真空检漏装置，其特征在于：电源单元向阳极(3)输出的高电压为2.7kV～3.3kV，电源单元向阳极(3)输出的低电压为140V～160V。
6.根据权利要求1所述的宽动态真空检漏装置，其特征在于：电源单元由低压电源、高压电源和单刀双掷开关组成，低压电源输出的电压为140V～160V，高压电源输出的电压为2.7kV～3.3kV；阳极(3)通过单刀双掷开关与低压电源或高压电源连接。
7.根据权利要求1所述的宽动态真空检漏装置，其特征在于：高精度控制回路还包括人机界面，人机界面与数据处理单元连接。
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