[发明专利]光频梳的产生装置、产生装置制备方法及产生方法

权利要求书

1.一种光频梳的产生装置，其特征在于，包括：衬底，以及衬底上生长的泵浦波导、抑制波导和光学微腔；

所述光学微腔用于产生光频梳；

所述泵浦波导位于所述光学微腔的外侧，所述泵浦波导用于向光学微腔中入射光信号；

所述抑制波导为位于所述光学微腔外侧的弧形波导，所述抑制波导与所述光学微腔在拉曼频率处具有耦合效应；所述拉曼频率为所述光学微腔发生拉曼散射效应时产生的散射光的频率。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述光学微腔与所述抑制波导相对于衬底的高度相同。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述抑制波导为与所述光学微腔同心的圆弧波导。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述抑制波导还包括延伸部分，所述延伸部分从所述圆弧波导尾端延伸出去；

所述抑制波导的延伸部分远离所述光学微腔。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述延伸部分位于圆弧波导尾端的一侧或两侧。

6.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述圆弧波导的弧度为(0°，360°)中任一度数。

7.一种光频梳的产生装置制备方法，其特征在于，包括：

在衬底上生长晶体材料薄膜；

确定光学微腔的尺寸和抑制波导的尺寸，使得所述抑制波导与所述光学微腔在拉曼频率处具有耦合效应；所述拉曼频率为，所述光学微腔发生拉曼散射效应时产生的散射光的频率；

确定泵浦波导的尺寸；

根据所述光学微腔的尺寸、所述泵浦波导的尺寸和所述抑制波导的尺寸，对所述晶体材料薄膜进行刻蚀，得到泵浦波导、抑制波导和光学微腔。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述确定所述光学微腔的尺寸和所述抑制波导的尺寸的步骤包括：

根据产生的光频梳的重复频率，确定光学微腔的尺寸；

根据所述光学微腔的尺寸确定所述光学微腔的传播常数；

确定所述抑制波导的尺寸，使得所述光学微腔的传播常数与所述抑制波导的传播常数之差小于事先设置的常数阈值；所述抑制波导的尺寸包括：所述抑制波导的线宽和所述抑制波导的半径。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述抑制波导为与所述光学微腔同心的圆弧波导，所述圆弧波导的弧度为(0°，360°)中任一度数。

10.一种光频梳的产生方法，其特征在于，包括：

向泵浦波导入射光信号，所述光信号由泵浦波导耦合到光学微腔；

所述光学微腔中的光信号中频率为拉曼频率的部分，由所述光学微腔耦合到抑制波导；所述拉曼频率为所述光学微腔发生拉曼散射效应时产生的散射光的频率；

所述光学微腔产生光频梳，并且所述光频梳由所述光学微腔耦合到所述泵浦波导，所述泵浦波导将所述光频梳输出。