[发明专利]去污系统及去污方法

说明书

本发明涉及一种去污系统及去污方法。上述去污系统包括反应装置及供电装置。反应装置包括阴极及吸液组件，吸液组件包括用于吸收电解液的吸液件，吸液件能够与阴极、待去污工件均接触，以使吸液件能够给阴极和待去污工件提供电解液。供电装置具有正极和负极，正极能够与待去污工件电连接，负极能够与阴极电连接。上述去污系统能够对待去污工件进行现场去污，且产生的二次废液较少。

技术领域

本发明涉及核设施去污领域，特别是涉及一种去污系统及去污方法。

背景技术

核设施中金属部件或构筑物浅层污染热点去污常用方法是将部件拆解后送至去污车间，采用传统热酸热碱等传统去污手段处理。或者，采用化学去污液反复擦拭冲洗去污，但此方法会产生较多二次废液。

发明内容

基于此，有必要提供一种能够现场去污且二次废液较少的去污系统。

此外，还提供一种去污方法。

一种去污系统，包括：

反应装置，包括阴极及吸液组件，所述吸液组件包括用于吸收电解液的吸液件，所述吸液件能够与所述阴极、待去污工件均接触，以使所述吸液件能够给所述阴极和所述待去污工件提供所述电解液；及

供电装置，具有正极和负极，所述正极能够与所述待去污工件电连接，所述负极能够与所述阴极电连接。

在其中一个实施例中，所述吸液组件还包括外壳，所述外壳能够收容所述吸液件，且所述外壳能够至少部分收容所述阴极，所述阴极收容在所述外壳内的部分能够与所述吸液件接触。

在其中一个实施例中，所述吸液件的材料选自聚氨酯发泡胶、木纤维素及聚丙烯酸酯中的一种。

在其中一个实施例中，所述去污系统还包括能够与所述吸液组件连通的真空装置，所述真空装置能够对所述吸液组件抽真空，以使所述吸液件能够与所述阴极和所述待去污工件均接触。

在其中一个实施例中，所述阴极选自铈钨电极、银钨电极及钛镀铱电极中的一种。

在其中一个实施例中，所述去污系统还包括供液装置，所述供液装置能够承装所述电解液，所述供液装置能够与所述吸液组件连通，以使所述供液装置中的所述电解液能够流入所述吸液组件，并且能够从所述吸液组件流回所述供液装置。

在其中一个实施例中，所述供液装置包括供液槽、供液泵及回液泵，所述供液槽能够承装所述电解液，所述供液泵能够使所述供液槽内的所述电解液流入所述吸液组件，所述回液泵能够使所述吸液组件流出的所述电解液流入所述供液槽。

在其中一个实施例中，所述去污系统还包括反应池，所述反应池能够承装电解液，且所述反应池的池壁能够与所述负极电连接，所述反应池能够容纳所述待去污工件和所述阴极，所述反应池的池壁与所述负极电连接时，所述阴极与所述负极断开，所述阴极与所述负极电连接时，所述反应池的池壁与所述负极断开。

一种去污方法，包括如下步骤：

使吸液件接触阴极和待去污工件，所述吸液件吸收有电解液；及

对所述阴极和所述待去污工件通电处理，其中，所述阴极与负极电连接，所述待去污工件与正极电连接。

在其中一个实施例中，所述对所述阴极和所述待去污工件通电处理的步骤中，电流密度为2A/cm²～20A/cm²。

在其中一个实施例中，所述对所述阴极和所述待去污工件通电处理的步骤中，所述电解液的温度为30℃～90℃。

在其中一个实施例中，所述使吸液件接触阴极和待去污工件的步骤中，使所述阴极和所述待去污工件的间距为1cm～5cm。