[发明专利]去污系统及去污方法

权利要求书

1.一种去污系统，其特征在于，包括：

反应装置，包括阴极及吸液组件，所述吸液组件包括用于吸收电解液的吸液件，所述吸液件能够与所述阴极、待去污工件均接触，以使所述吸液件能够给所述阴极和所述待去污工件提供所述电解液；及

供电装置，具有正极和负极，所述正极能够与所述待去污工件电连接，所述负极能够与所述阴极电连接；

其中，所述吸液件的材料为遇水膨胀材料，所述阴极选自铈钨电极、银钨电极及钛镀铱电极中的一种，所述待去污工件表面含有放射性污染物，所述吸液件的材料选自聚氨酯发泡胶、木纤维素及聚丙烯酸酯中的一种，所述阴极的厚度为2mm～10mm，所述阴极的面积为40cm²～200cm²，所述去污系统还包括能够与所述吸液组件连通的真空装置，所述真空装置能够对所述吸液组件抽真空，以使所述吸液件能够与所述阴极和所述待去污工件均接触。

2.根据权利要求1所述的去污系统，其特征在于，所述吸液组件还包括外壳，所述外壳能够收容所述吸液件，且所述外壳能够至少部分收容所述阴极，所述阴极收容在所述外壳内的部分能够与所述吸液件接触。

3.根据权利要求1所述的去污系统，其特征在于，所述吸液件的材料为聚氨酯发泡胶。

4.根据权利要求1所述的去污系统，其特征在于，所述真空装置包括真空泵及真空管道，所述真空泵能够通过所述真空管道与所述吸液组件连通。

5.根据权利要求1所述的去污系统，其特征在于，所述去污系统还包括供液装置，所述供液装置能够承装所述电解液，所述供液装置能够与所述吸液组件连通，以使所述供液装置中的所述电解液能够流入所述吸液组件，并且能够从所述吸液组件流回所述供液装置。

6.根据权利要求5所述的去污系统，其特征在于，所述供液装置包括供液槽、供液泵及回液泵，所述供液槽能够承装所述电解液，所述供液泵能够使所述供液槽内的所述电解液流入所述吸液组件，所述回液泵能够使所述吸液组件流出的所述电解液流入所述供液槽。

7.根据权利要求1所述的去污系统，其特征在于，所述去污系统还包括反应池，所述反应池能够承装电解液，且所述反应池的池壁能够与所述负极电连接，所述反应池能够容纳所述待去污工件和所述阴极，所述反应池的池壁与所述负极电连接时，所述阴极与所述负极断开，所述阴极与所述负极电连接时，所述反应池的池壁与所述负极断开。

8.一种去污方法，其特征在于，包括如下步骤：

使吸液件接触阴极和待去污工件，所述吸液件吸收有电解液，其中，所述吸液件的材料为遇水膨胀材料，所述阴极选自铈钨电极、银钨电极及钛镀铱电极中的一种，所述待去污工件表面含有放射性污染物，所述吸液件的材料选自聚氨酯发泡胶、木纤维素及聚丙烯酸酯中的一种，所述阴极的厚度为2mm～10mm，所述阴极的面积为40cm²～200cm²；及

对所述阴极和所述待去污工件通电处理，其中，所述阴极与负极电连接，所述待去污工件与正极电连接；

其中，所述使吸液件接触阴极和待去污工件的步骤包括：提供外壳，所述外壳能够收容所述吸液件，且所述外壳还能够至少部分收容所述阴极，所述阴极收容在所述外壳内的部分能够与所述吸液件接触；将所述外壳与所述吸液件连接，利用真空装置对所述外壳抽真空，以使所述吸液件接触所述阴极及所述待去污工件。

9.根据权利要求8所述的去污方法，其特征在于，所述对所述阴极和所述待去污工件通电处理的步骤中，电流密度为2A/cm²～20A/cm²。

10.根据权利要求8所述的去污方法，其特征在于，所述对所述阴极和所述待去污工件通电处理的步骤中，所述电解液的温度为30℃～90℃。

11.根据权利要求8所述的去污方法，其特征在于，所述使吸液件接触阴极和待去污工件的步骤中，使所述阴极和所述待去污工件的间距为1cm～5cm。