[发明专利]用于将X射线光栅对准到X射线辐射源的设备和方法以及X射线图像采集系统

说明书

本发明涉及一种用于将X射线光栅对准到X射线辐射源的设备，所述设备(10)包括：至少两个平面X射线光栅段(11‑19)；至少一个对准单元(31‑39)，其用于对准至少两个平面X射线光栅段之一；其中，至少两个平面X射线光栅段(11‑19)并排布置并形成X射线光栅(20)；其中，至少两个平面X射线光栅段(11‑19)均包括用于X射线辐射的光栅表面(41‑49)，每个光栅表面(41‑49)包括几何中心；其中，光栅表面(41‑49)的中每个的法线(21‑29)定义公共平面(73)，其中，法线(21‑29)与光栅表面(41‑49)的几何中心相交；其中，至少两个平面X射线光栅段(11‑19)中的至少第一平面X射线光栅段能绕垂直于公共平面(73)的轴(131‑139)旋转；并且其中，至少两个平面X射线光栅段(11‑19)中能绕轴(131‑139)旋转的第一平面X射线光栅段连接到至少一个对准单元(31‑39)中的第一对准单元。本发明提供了提供改进的X射线光栅(20)的设备(10)和方法(100)。

技术领域

本发明涉及用于将X射线光栅对准到X射线辐射源的设备和方法，以及X射线图像采集系统。

背景技术

暗场X射线图像采集使用小角度散射来获取从常规X射线成像不能获得的信息。暗场X射线图像采集系统使用三个光栅：G0、G1和G2。光栅G0和G1很小，并且通常被布置成靠近X射线辐射源。G0光栅布置在X射线辐射源处，并用于提供虚拟源的二维阵列。G1光栅可以调制X射线辐射的幅度或相位。G2光栅用于分析已经穿过要成像的对象的X射线辐射的波阵面。G2光栅被布置成靠近X射线辐射探测器，并且优选地覆盖X射线辐射探测器的有效区域的整个尺寸。

光栅G0和G2包括利用对X射线辐射透明的条隔开的用于阻挡X射线辐射的材料条。X射线阻挡条必须具有有限的厚度以能够阻挡X射线辐射。光栅在X射线辐射源上具有焦点，即，条沿着X射线图像采集系统的光轴取向。然而，几乎所有的生产方法都导致未聚焦的光栅结构，即，光栅条都彼此平行。

JP 2001 206161A描述了第一吸收型光栅，所述第一吸收型光栅包括沿着虚拟圆柱表面排列的多个小光栅，所述虚拟圆柱表面的中心轴是穿过X射线焦点和X射线辐射源的虚拟线。相位差分图像生成计算器对每个光栅施加校正量，从而计算强度变化的相位偏差。

DE 101 36 795A1描述了一种光栅，其以平面方式制造，并且然后通过机械应力达到弯曲的形状。

发明内容

因此，需要能提供一种提供改进的X射线光栅的对准的设备和方法。

本发明的目的通过独立权利要求的主题解决。从属权利要求中并入了其他实施例。应当注意，本发明的以下描述的方面也适用于X射线图像采集系统、方法、计算机程序单元和计算机可读介质。

根据本发明，提供了一种用于将X射线光栅对准到X射线辐射源的设备，所述设备包括：至少两个平面X射线光栅段；以及用于对准至少两个平面X射线光栅段之一的至少一个对准单元；其中，至少两个平面X射线光栅段并排布置并形成X射线光栅；其中，至少两个平面X射线光栅段中的每个包括用于X射线辐射的光栅表面，每个光栅表面包括几何中心；其中，光栅表面中的每个的法线定义一个公共平面，其中，法线与光栅表面的几何中心相交；其中，至少两个平面X射线光栅段中的至少第一平面X射线光栅段能绕垂直于公共平面的轴旋转；其中，至少两个平面X射线光栅段中的第一平面X射线光栅段连接到至少一个对准单元中的第一对准单元。

因此，至少两个平面X射线光栅段中的至少一个可以由对应的对准单元个体地对准。在这样做时，将平面X射线光栅段连接到对准单元。然而，在一些实施例中，能够将多于一个平面X射线光栅段连接到对准单元，以将多个平面X射线光栅段对准到焦点或法线。由于X射线光栅的至少两个平面X射线光栅段中的至少一个的个体对准，因此X射线光栅的至少一部分包括聚焦到X射线焦点的光栅结构。在优选的示范性实施例中，每个平面X射线段可以由对准单元对准。在该实施例中，每个平面X射线光栅段连接到对准单元，即，每个平面X射线光栅段以一对一的方式连接到其自己的单独的个体单元。