[实用新型]光栅弯曲装置及其弯曲光栅系统

说明书

本实用新型公开了一种光栅弯曲装置及其弯曲光栅系统，装置包括支架、用于夹持光栅的夹持机构，所述夹持机构通过弯曲调节机构固定在支架上；所述夹持机构包括成对设置并贴合光栅边缘的夹持件，两个所述夹持件相对设置来夹持光栅，所述弯曲调节机构驱动夹持件向中心移动调整光栅的弯曲度。系统包括弯曲光栅、和弯曲光栅系统。本实用新型提供一种光栅弯曲装置，该装置能将平面光栅变为弯曲光栅。本实用新型系统可以调节光栅弯曲度、结构简单、制造方便。

技术领域

本实用新型属于光栅技术领域，涉及一种光栅弯曲装置及其弯曲光栅系统。

背景技术

自2006年以来，基于光栅的X射线相衬成像技术得到了很大程度的发展，获得的相衬图像及暗场图像能够弥补普通X射线吸收图像对弱吸收物质成像的不足，从而能够呈现出更完整的物质内部信息。目前，X射线相衬成像已在实验室完成了一些生物器官组织成像、材料检测等方面的工作，正逐步由实验研发阶段向应用阶段过渡。

实际应用中，成像视场的大小很大程度上影响着该技术的应用领域，如在医学领域，为检查人体中的较大器官组织，需要成像系统的视场足够大。在普遍使用的锥束X射线的前提下，在光轴附近，X射线在行进中横向(即光栅面上垂直于光栅条带的方向)穿透不超过1个光栅周期，而在光栅边缘，X射线束呈发散状，其横向穿透深度大于1个周期，则光栅对X射线不能起到完全约束作用，因此，该处的相位信息缺失，造成视场受限现象。因此，应使光栅条带适应X射线的传播方向，即需要制作弯曲光栅。对于一维的X射线相衬成像系统，需要制作柱状弯曲光栅。

由于硅片质地较脆，硅基光栅很难进行弯曲，现有技术没有直接通过将硅片弯曲制成硅基的弯曲光栅。

现有技术中，弯曲光栅的制作主要是采用以下方式：首先制作平面光栅。现有技术中主流平面光栅的制作上采用LIGA(Lithographie，Galvanoformung，Abformung三个德文单词缩写)技术，以硅片为基底，将厚度几十微米的钛覆盖到基底上，然后再实施LIGA技术制成平面光栅，平面光栅制作完成后，为便于光栅弯曲，需要将硅基底全部腐蚀掉，这样便形成了以一薄层钛为基底的光栅，其柔韧性比硅基底强，因此可以再将其制作成弯曲光栅。但是钛作基底存在以下问题：平面光栅制造是以LIGA技术为主，不便于在普通实验室展开实施，且成本较高。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题在于，针对现有技术的缺陷，提供一种基于硅基的光栅弯曲装置，该装置能将平面光栅变为弯曲光栅。

本实用新型进一步要解决的问题是，提供一种可以调节光栅弯曲度、结构简单、制造方便的弯曲光栅系统。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种光栅弯曲装置，包括支架、用于夹持光栅的夹持机构，所述夹持机构通过弯曲调节机构固定在支架上；所述夹持机构包括成对设置并夹持光栅边缘的夹持件，成对的两个所述夹持件相对设置且二者对光栅作用力的中心同在通过光栅中心的一条直线上，所述弯曲调节机构驱动夹持件向光栅中心移动调整光栅的弯曲度。

进一步地，所述的光栅弯曲装置中，优选所述夹持件设有用于夹持光栅边缘的卡槽；所述卡槽形状与光栅边缘形状配合。

进一步地，所述的光栅弯曲装置中，优选所述弯曲调节机构包括顶压件，所述顶压件设置在夹持件后部；

所述顶压件与夹持件分离设置，所述顶压件顶压在所述夹持件后部；

或者所述顶压件与夹持件一体结构或者二者固定连接在一起；

或者所述顶压件与夹持件转动连接；

进一步地，所述的光栅弯曲装置中，优选所述支架上设有穿过孔，所述顶压件穿装在所述穿过孔中，且所述顶压件与支架之间设有锁定件，将移动后的顶压件锁定在穿过孔中；

或者所述支架上设有螺孔，所述顶压件螺接在所述螺孔中；