[发明专利]成像光学系统、测定装置、形状测定装置、构造物制造系统、及构造物制造方法有效
申请号: | 201810367580.6 | 申请日: | 2013-02-06 |
公开(公告)号: | CN108761778B | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
发明(设计)人: | 北泽大辅;派崔克·布兰卡特 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康;尼康计量公众有限公司 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G02B13/24;G01B11/24;B29C37/00 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 成像 光学系统 测定 装置 形状 构造 制造 系统 方法 | ||
1.一种测定装置,其特征在于,具有:
成像光学系统,其形成测定对象的像;及
摄影部,其具备相对于该成像光学系统的光轴倾斜地配置于该成像光学系统的像面的附近的透过构件;
其中,该成像光学系统具备相对于该光轴而偏心的第1光学构件,其中,该透过构件是沿该像面配置且使借由该成像光学系统而聚集的光束通过的平面构件,
其中,该第1光学构件具有绕第1对称轴旋转对称的表面,且
其中,该第1对称轴在一平面中相对于该光轴是倾斜的,该平面包含该光轴,该平面垂直于包含物体面的面与包含该像面的面之间的交线,且
该第1光学构件相对于该光轴朝向与该透过构件倾斜的方向相同的方向倾斜。
2.如权利要求1所述的测定装置,其特征在于,其中,该第1光学构件是以降低于该透过构件产生的像差的方式相对于该光轴而偏心地配置。
3.如权利要求1所述的测定装置,其特征在于,其进一步具备照明部,该照明部是沿与该像面共轭的面也就是物体面,向测定对象的测定区域投射光束。
4.如权利要求1所述的测定装置,其特征在于,其中,该第1光学构件具有绕第1对称轴旋转对称的曲面形状,该第1对称轴相对于该光轴的倾斜方向与该像面的法线相对于该光轴的倾斜方向为相同方向。
5.如权利要求4所述的测定装置,其特征在于,其具备具有绕第2对称轴旋转对称的曲面形状的第2光学构件;及
该第2对称轴相对于该光轴的倾斜方向与该第1对称轴相对于该光轴的倾斜方向为相反方向。
6.如权利要求4所述的测定装置,其特征在于,其中,该第1光学构件在成像光束所通过的范围内具备第1部分、及较该第1部分更靠近包含该物体面的平面与包含该像面的平面的交线的第2部分,且以随着自该第1部分朝向该第2部分较其他光学构件更靠近该像面的方式配置。
7.如权利要求5所述的测定装置,其特征在于,其中,该第2光学构件在成像光束所通过的范围内具备第3部分、及较该第3部分更靠近包含该物体面的面与包含该像面的面的交线的第4部分,且以随着自该第4部分朝向该第3部分较其他光学构件远离该像面的方式配置。
8.如权利要求5所述的测定装置,其特征在于,其中,该第2光学构件是以抵消于该第1光学构件产生的像差的一部分的方式配置。
9.如权利要求6所述的测定装置,其特征在于,其具备第2光学构件,该第2光学构件相对于该物体面与该像面之间的光圈面,配置于与该第1光学构件相同的侧。
10.如权利要求8所述的测定装置,其特征在于,其具备包含该第1光学构件及该第2光学构件的3个以上的光学构件;
该第2光学构件在成像光束的行进方向配置于该第1光学构件的旁边。
11.如权利要求1至10中任一项所述的测定装置,其特征在于,其中,所述成像光学系统具备包含该第1光学构件的多个光学构件,
该第1光学构件具有该多个光学构件的光学面中曲率相对较小的光学面。
12.如权利要求1至9中任一项所述的测定装置,其特征在于,其中,所述成像光学系统在成像光束所通过的范围内具备具有绕该光轴旋转对称的形状的第3光学构件。
13.如权利要求1至10中任一项所述的测定装置,其特征在于,其中,该第1光学构件相对于借由该成像光学系统而聚光于该像面的成像光束具有倍率。
14.如权利要求1至3中任一项所述的测定装置,其特征在于,其中,该第1光学构件具有成像光束入射的第1平面与该成像光束出射的第2平面,该第2平面平行于该第1平面。
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