[发明专利]方阻渐变内部并联式金属化安全膜在审
| 申请号： | 201810346501.3 | 申请日： | 2018-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN108565115A | 公开（公告）日： | 2018-09-21 |
| 发明（设计）人： | 钱锦绣 | 申请（专利权）人： | 钱立文 |
| 主分类号： | H01G4/015 | 分类号： | H01G4/015;H01G4/32;H01G4/33 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 244000 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电极板单元 镀层加厚 连续分布 渐变 方阻 金属化安全膜 对称分布 空白留边 内部并联 相邻处 基膜 有效面积利用率 电容器 等效串联电阻 薄膜电容器 金属化镀层 空白隔离带 电极镀层 电极结构 梯形分布 纵向中轴 蒸镀面 自愈性 电极 镀层 减小 蒸镀 分隔 制造 生产 | ||
【权利要求书】：
1.一种方阻渐变内部并联式金属化安全膜，其特征在于包括基膜(1)，蒸镀在基膜(1)蒸镀面纵向中轴的镀层加厚带(2)，对称分布在镀层加厚带(2)两侧的连续分布的电极板单元(3)，所述电极板单元(3)由呈纵向连续分布的空白隔离带(4)分隔成连续分布的电极板单元(3)，对称分布在电极板单元(3)另一侧的空白留边带(5)。
2.根据权利要求1所述的一种方阻渐变内部并联式金属化安全膜，其特征在于所述电极板单元(3)镀层厚度在横向上作梯形分布，与镀层加厚带(2)相邻处最厚，在与空白留边带(5)相邻处最薄，形成方阻渐变的电极结构。
3.根据权利要求1所述的一种方阻渐变内部并联式金属化安全膜，其特征在于所述镀层加厚带(2)方阻≤5Ω/□，宽度为3mm左右。
4.根据权利要求1所述的一种方阻渐变内部并联式金属化安全膜，其特征在于所述电极板单元(3)其间距取值40mm左右，最厚处方阻为10Ω/□左右，镀层最薄处方阻为45Ω/□左右。
5.根据权利要求1所述的一种方阻渐变内部并联式金属化安全膜，其特征在于所述空白隔离带(4)宽度为0.2mm左右。
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