[发明专利]高功率射束阱

权利要求书

1.高功率射束阱（10），其用于激光射束（11），所述高功率射束阱具有吸收体（20）和反射面（33.1），所述吸收体具有多个楔形的肋片（24），所述楔形的肋片构造用于射束的吸收面（26），所述反射面与所述楔形的肋片（24）间隔开地布置并且面向所述吸收面（26），其特征在于，冷却通道（41）至少被布置在所述楔形的肋片（24）的一部分之内，所述冷却通道分别在所述楔形的肋片（24）的纵向延伸部中至少延伸跨越所述楔形的肋片（24）的部分区域，其中，所述楔形的肋片（24）沿着其纵向延伸部被彼此侧向地布置，并且，所述楔形的肋片（24）沿着其纵向延伸部在朝向所述高功率射束阱（10）的射束进入开口（32）的方向上取向。

2.根据权利要求1所述的高功率射束阱（10），其特征在于，指向所述反射面（33.1）的所述楔形的肋片（24）分别由逐渐变尖的棱封闭，并且，逐渐变尖的、楔形的槽被构造在所述楔形的肋片（24）之间。

3.根据权利要求1所述的高功率射束阱（10），其特征在于，所述反射面（33.1）倾斜于所述楔形的肋片（24）延伸地取向，所述反射面（33.1）在所述射束进入开口（32）的区域中具有到所述楔形的肋片（24）的、最大的距离，并且，所述距离在所述射束朝向所述高功率射束阱（10）的内部的传播方向上减小。

4.根据权利要求3所述的高功率射束阱（10），其特征在于，与所述射束进入开口（32）对置地，所述反射面（33.1）逐渐倾斜地封闭所述楔形的肋片（24）。

5.根据权利要求1所述的高功率射束阱（10），其特征在于，所述反射面（33.1）定向反射地被实施，和/或，所述反射面（33.1）部分吸收地被实施。

6.根据权利要求1所述的高功率射束阱（10），其特征在于，所述吸收体（20）被实施为烧结体，和/或，所述吸收体借助激光烧结来制造。

7.根据权利要求6所述的高功率射束阱（10），其特征在于，所述吸收体（20）被实施为烧结陶瓷、烧结玻璃陶瓷或者烧结金属。

8.根据权利要求1所述的高功率射束阱（10），其特征在于，所述吸收体（20）具有冷却剂进口（42）和冷却剂出口（43），所述冷却剂进口和所述冷却剂出口经由所述冷却通道（41）导流地连接。

9.根据权利要求8所述的高功率射束阱（10），其特征在于，所述冷却剂进口（42）面向所述射束进入开口（32）并且所述冷却剂出口（43）背离所述射束进入开口（32）地被如此布置在所述吸收体处，使得冷却剂在射束传播的方向上穿流所述冷却通道（41）。

10.根据权利要求9所述的高功率射束阱（10），其特征在于，所述冷却剂进口（42）面向所述射束进入开口（32）并且所述冷却剂出口（43）背离所述射束进入开口（32）地被如此成型在所述吸收体处，使得冷却剂在射束传播的方向上穿流所述冷却通道（41）。

11.根据权利要求1所述的高功率射束阱（10），其特征在于，所述冷却通道（41）彼此并联或者串联地连接。

12.根据权利要求8所述的高功率射束阱（10），其特征在于，所述吸收体（20）至少包括所述楔形的肋片（24）、所述冷却通道（41）、所述冷却剂进口（42）和所述冷却剂出口（43），并且，所述吸收体（20）被一件式地实施。

13.根据权利要求1所述的高功率射束阱（10），其特征在于，所述冷却通道（41）分别在其横截面中从所述楔形的肋片（24）延伸到所述吸收体（20）的基体（21）中，所述楔形的肋片（24）被成型在所述吸收体处。