[实用新型]靶装置和同位素或中子产生装置

权利要求书

1.一种用于同位素或中子产生装置的靶装置，其特征在于包括：

壳体，在该壳体中形成反应腔室；

至少一部分设置在反应腔室中的靶体；以及

形成在壳体中的排放孔，该排放孔用于从反应腔室至少排出汽化的靶体的靶材料。

2.根据权利要求1所述的用于同位素或中子产生装置的靶装置，其特征在于还包括：

引入孔，该引入孔用于将冷却介质引入反应腔室中，且所述排放孔还用于从反应腔室排出对靶体进行冷却后的冷却介质。

3.根据权利要求1所述的用于同位素或中子产生装置的靶装置，其特征在于还包括：

通过管道与排放孔相连的泵。

4.根据权利要求2所述的用于同位素或中子产生装置的靶装置，其特征在于还包括：

通过管道与引入孔和排放孔中的一个相连的回路或泵。

5.根据权利要求1所述的用于同位素或中子产生装置的靶装置，其特征在于：

靶体具有柱状形状，且具有使冷却介质进入靶体的散热结构。

6.根据权利要求5所述的用于同位素或中子产生装置的靶装置，其特征在于：

所述散热结构包括多孔表面结构、内部开放式多孔结构和毛细流道中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的用于同位素或中子产生装置的靶装置，其特征在于还包括：

固定进给部件，该固定进给部件用于固定靶体并在靶体消耗预定量后将靶体进给到预定位置。

8.一种同位素或中子产生装置，其特征在于包括：

权利要求1至7的任一项所述的靶装置。