[发明专利]一种掺钒ZnO厚膜及其制备方法在审
申请号: | 201711494906.3 | 申请日: | 2017-12-31 |
公开(公告)号: | CN108231998A | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 李俊红;樊青青;李东宁 | 申请(专利权)人: | 中国科学院声学研究所 |
主分类号: | H01L41/18 | 分类号: | H01L41/18;H01L41/39;H01L41/41 |
代理公司: | 北京亿腾知识产权代理事务所 11309 | 代理人: | 陈霁 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 厚膜 制备 纳米粉 混合浆料 涂覆 预处理 热处理 掺杂元素 压电薄膜 压电性能 成膜 单层 预设 掺杂 重复 | ||
本发明公开了一种掺钒ZnO厚膜及其制备方法,包括:S10、制备掺钒ZnO胶体;S20、制备掺钒ZnO纳米粉;S30、将掺钒ZnO胶体和掺钒ZnO纳米粉混合,形成掺钒ZnO混合浆料;S40、将掺钒ZnO混合浆料和掺钒ZnO胶体按预设顺序涂覆在基片上;S50、对涂覆后的基片进行预处理;S60、判断制备的掺钒ZnO厚膜的厚度是否达到所需厚度,若否,则重复步骤S40和S50,直至获得所需厚度的掺钒ZnO厚膜,若是,则执行步骤S70;S70、对掺钒ZnO厚膜进行热处理。本发明提供了一种高性能ZnO厚膜的制备方法,通过掺钒后ZnO厚膜的压电性能得到明显提高;通过纳米粉可有效防止压电薄膜的开裂问题;同时单层成膜厚度大大增加;可实现掺杂元素的均匀、定量掺杂。本发明方法设备简单,成本低,易于实现。
技术领域
本发明涉及制备高性能压电厚膜技术领域,尤其涉及一种掺钒ZnO厚膜及其制备方法。
背景技术
ZnO膜是一种重要的压电薄膜,相对于其它薄膜具有压电系数相对较高、易于图形化等优点,因此,在高频超声探头、MEMS压电传感器、MEMS压电执行器、高频声表面波器件中被广泛应用。
但是ZnO膜的压电系数,仍不能完全满足各种器件应用的要求。掺杂是提高ZnO膜的压电系数的一种重要方法。同时为了满足高频超声探头、MEMS压电传感器、MEMS压电执行器等器件对工作频率、输出能量等的要求,需要制备高性能的压电厚膜。而利用现存方法制备ZnO厚膜存在压电性能低、制备效率低、掺杂成分不均匀、由于热应力ZnO厚膜容易开裂等问题。
因此,急需一种膜成分均匀、成膜效率高、成本低、压电系数高,且能有效防止压电薄膜的开裂的ZnO厚膜制备方法。
发明内容
本发明的目的在于提供一种制备掺钒ZnO厚膜及其制备方法。该制备方法用掺钒ZnO纳米颗粒与掺钒的ZnO先驱体胶体充分混合,形成一种稳定的浆料。并设定浆料与胶体在基片涂覆的工艺顺序,并进行后续的热处理,最终形成无裂纹的掺钒ZnO厚膜。通过掺钒后可以提高ZnO厚膜的压电性能;通过纳米粉可以有效释放压电膜的热应力,有效防止压电薄膜的开裂问题;同时单层成膜厚度大大增加,可以明显提高ZnO厚膜的成膜效率。并且可以实现掺杂元素的均匀、定量掺杂。本发明方法设备简单,成本低,污染小易于实现。
为实现发明目的,本发明所采用的技术方案是:
第一方面,本发明提供了一种掺钒ZnO厚膜的制备方法,所述制备方法包括:
S10、制备掺钒ZnO胶体;
S20、制备掺钒ZnO纳米粉;
S30、将所述掺钒ZnO胶体和所述掺钒ZnO纳米粉混合,形成掺钒ZnO混合浆料;
S40、将所述掺钒ZnO混合浆料和所述掺钒ZnO胶体按预设涂覆顺序涂覆在基片上;
S50、对涂覆后的基片进行预处理;
S60、判断制备的掺钒ZnO厚膜的厚度是否达到所需厚度,若否,则重复步骤S40和S50,直至获得所需厚度的掺钒ZnO厚膜,若是,则执行步骤S70;
S70、对所述掺钒ZnO厚膜进行热处理。
在一个可行的实施方案中,所述制备掺钒ZnO胶体,具体为:
将醋酸锌和聚乙烯醇溶于去离子水,在加热条件下,磁力搅拌回流0.5~2h,直至得到透明溶液;
冷却到室温,按摩尔比:V/(Zn+V)=0.001~0.7加入偏钒酸铵,继续搅拌待完全溶解后得到溶胶。
优选地,所述加热温度为60~100℃。
在一个可行的实施方案中,所述制备掺钒ZnO胶体,具体为:
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