[发明专利]一种防止卤化银胶片产生灰雾的涂布液及其制品

说明书

一种防止卤化银胶片产生灰雾的涂布液，所述涂布液为乳剂涂布液，在温度40～60℃恒温下，在乳剂涂布液中添加涂布补加剂，涂布补加剂加入量为每1kg乳剂涂布液中加入1.0～200.0mL，补加完全后在PET聚酯片基上涂布；所述乳剂涂布液为卤化银乳剂制备而成，卤化银是氯化银、氯溴化银、溴化银和溴碘化银。经测试，本发明的涂布液在涂布干燥过程中够有效地降低灰雾，灰雾参数下降40％‑80％。

技术领域

本发明涉及感光材料技术领域，特别涉及到一种防止卤化银胶片产生灰雾的涂布液。

背景技术

卤化银乳剂在制备、加工和储存过程中会产生灰雾，灰雾的产生严重影响胶片的使用。未曝光的卤化银通过显影加工而出现的黑化现象称作为灰雾，产生的灰雾的原因有很多：乳剂成熟超过最佳平台期；明胶中含硫过多；乳化时，pBr过高和涂布过程中的干燥灰雾等等。

为避免乳剂在使用过程中的灰雾出现，人们相继提出添加防灰雾剂，以达到降低灰雾的目的，对于现有胶片防止胶片产生灰雾的情况，只是依靠防灰雾剂加入，通过防灰雾剂降低胶片生产过程中出现的灰雾。如CN104142610A所述：在乳剂中添加1-苯基-5-巯基四氮唑溶液来减小胶片的灰雾。如中国专利CN105425530A所述：在乳剂中添加6-硝基苯并咪唑的醋酸盐降低灰雾、提高胶片稳定性。这些防止灰雾的效果主要针对于乳剂生产过程中产生的灰雾，虽然对于在胶片涂布过程中产生的干燥灰雾有一定的效果，但是添加防灰雾剂不能彻底解决干燥灰雾。

胶片涂布过程中产生的灰雾主要来自干燥灰雾。乳剂颗粒是带有“陷阱”的立方点阵结构，在压力作用之下，机械形变产生的应力使位于杂质能级上的电子，甚至使正常能级电子能够被激发而进入到“陷阱”的立方点阵结构，从而形成了许多可显影的银斑而导致灰雾的上升。胶片在干燥过程，明胶等物质失水收缩，会产生收缩应力，此应力作用在卤化银颗粒上，是电子进入“陷阱”区域，形成可显影的潜影，从而形成灰雾。

充分分析胶片在生产过程中灰雾产生原因：应力效应是涂布过程中灰雾产生的最主要原因之一，降低了在干燥过程中的应力效应，从而可以降低胶片在生产过程中的灰雾。本专利从涂布添加剂入手，利用物理方法减少在涂布干燥过程中产生的应力效应，从而减少灰雾的产生。一般说来，添加吸水物质会延缓干燥过程，减小干燥时产生的应力效应；添加弹性物质，由于弹性物质在干燥过成膜过程中起到支撑作用，对于产生的应力效应有一定的抵抗作用，从而减小应力效应的产生。添加其一和两者同时使用都能够控制干燥过程中产生的应力灰雾，从而使灰雾控制在一定的范围内。

本专利利用此方法制得的涂布液及其制品能够很好的抑制涂布干燥过程中产生的灰雾。

发明内容

本发明的目的是提供一种防止卤化银胶片产生灰雾的涂布液及其制品，这所述涂布液在涂布过程中产生的灰雾很小，又不影响乳剂的感光度。

为实现上述发明目的，本发明采用如下技术方案：

一种防止卤化银胶片产生灰雾的涂布液，所述涂布液为乳剂涂布液，在温度40~60℃恒温下，在乳剂涂布液中添加涂布补加剂，涂布补加剂加入量为每1kg乳剂涂布液中加入1.0～200.0mL，补加完全后在PET聚酯片基上涂布；所述乳剂涂布液为卤化银乳剂制备而成，卤化银是氯化银、氯溴化银、溴化银和溴碘化银。

上述防止卤化银胶片产生灰雾的涂布液，所述卤化银的颗粒为立方体或者板状颗粒，卤化银的大小为0.2~2.0μm。

上述防止卤化银胶片产生灰雾的涂布液，涂布补加剂为低聚合度高分子合物，包括三(2-羟乙基)异氰脲酸酯、羧甲基纤维素钠、苯乙烯磺酸钠、聚乙烯醇与聚丙烯酸聚合物、聚乙二醇系列聚合物、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯酰胺、聚丙酸酯类聚合物、丙烯酸与苯乙烯共聚物、丙烯酸与乙烯衍生物的共聚物、丙烯酸与苯乙烯和乙烯衍生物的共聚物等。