[发明专利]触控中间产品及其制造方法以及触控产品制造方法在审
申请号: | 201711488578.6 | 申请日: | 2017-12-30 |
公开(公告)号: | CN109992145A | 公开(公告)日: | 2019-07-09 |
发明(设计)人: | 谢邦星;许建勇 | 申请(专利权)人: | 南昌欧菲显示科技有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041;G03F7/30 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 石佩 |
地址: | 330100 江*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 触控 边框区域 中间产品 蚀刻 触控线路 中心产品 剥膜块 显影 产品制造 触控单元 黄光制程 间隔排布 区域边缘 导电层 线路层 基板 减小 绝缘 去除 制造 | ||
本发明提供一种触控中间产品及其制造方法以及触控产品制造方法。该触控中间产品,基板,包括中心产品区域及位于所述中心产品区域边缘的边框区域;线路层,包括相互绝缘的触控线路及第一剥膜块,所述触控线路设于所述中心产品区域,所述触控线路包括多个间隔排布的触控单元,所述第一剥膜块设于所述边框区域。上述触控中间产品的边框区域具有第一剥膜块,也即在黄光制程中,边框区域的导电层并没有完全被显影蚀刻去除,减小了显影蚀刻的面积,从而可以减少显影蚀刻过程中生成的残留物,改善了触控单元外观不良的问题。
技术领域
本发明涉及触控技术领域,特别是涉及一种触控中间产品及其制造方法以及触控产品制造方法。
背景技术
在触控产品制作工艺流程中,通过设计具有预设图案的掩膜版(光罩),经黄光制程(曝光、显影及剥离)得到与实际触控产品对应的触控单元,触控单元包括触控电极及与触控电极连接的引线。如图1所示,一整块触控中间产品10,包括中心产品区域110和围绕中心产品区域110的边框区域120,其中,边框区域120大致为空白区。中心产品区域110包括多个触控单元210。如图2及图3所示,在触控单元210中,除触控电极212与引线占据的空间外,其他区域为空白区,在传统的工艺流程中,这些空白区域是经显影蚀刻去除导电层而形成的,但在显影蚀刻过程中,会发生化学反应而生成显影蚀刻沉淀物,而显影蚀刻沉淀物容易沉淀在触控单元210上,容易引起触控单元210外观颜色差异造成外观不良,甚至会对触控单元210功能阻值测量变化产生较大影响,降低触控单元210灵敏度。
发明内容
基于此,有必要针对触控单元外观不良的问题,提供一种触控中间产品及其制造方法以及触控产品制造方法。
一种触控中间产品,包括:基板,包括中心产品区域及位于所述中心产品区域边缘的边框区域;线路层,包括相互绝缘的触控线路及第一剥膜块,所述触控线路设于所述中心产品区域,所述触控线路包括多个间隔排布的触控单元,所述第一剥膜块设于所述边框区域。
上述触控中间产品的边框区域具有第一剥膜块,也即在黄光制程中,边框区域的导电层并没有完全被显影蚀刻去除,减小了显影蚀刻的面积,从而可以减少显影蚀刻过程中生成的残留物,改善了触控单元外观不良的问题。
在其中一个实施例中,所述第一剥膜块的数目为多个,多个所述第一剥膜块间隔排布。边框区域的第一剥膜块的数目为多个且间隔排布,使得显影面积分布均匀,能够降低触控中间产品在老化等程序中受到的张力挤压。
在其中一个实施例中,所述中心产品区域包括用于承载所述触控单元的承载区以及用于分离相邻两个所述触控单元的分割区,所述线路层还包括设于所述分割区的第二剥膜块。在分割区域设置第二剥膜块,占据空白区域,减小了显影蚀刻的面积,能够进一步减少显影蚀刻过程中生成的残留物。
在其中一个实施例中,所述第二剥膜块的数目为多个,多个所述第二剥膜块间隔排布。多个第二剥膜块间隔排布,能够降低触控中间产品在老化等程序中受到的张力挤压。
在其中一个实施例中,多个所述触控单元呈阵列排布,所述分割区包括横向分割区与纵向分割区;所述第二剥膜块设于所述横向分割区与所述纵向分割区中的一者上。如此,可以将触控单元的引线用于与柔性电路板连接的一端引入至没有设置第二剥膜块的横向分割区或纵向分割区,以防止第二剥膜块对引线产生不良影响。
在其中一个实施例中,所述触控单元包括触控电极以及引线,所述引线一端与所述触控电极连接,另一端用于与柔性电路板连接,所述承载区包括用于承载所述触控电极的可视区以及用于承载所述引线的非可视区;所述线路层还包括设于所述可视区的虚拟电极块,所述虚拟电极块与所述触控电极相对独立。由于基板与触控电极对光线的反射率及透射率不同,在可视区设置虚拟电极块可以进行光学补偿,平衡可视区被触控电极占据的区域与可视区的空白区域的视觉效果,使得视觉效果均一。而且采用虚拟电极块占据可视区的空白区域,能够进一步减少显影蚀刻过程中生成的残留物。
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