[发明专利]一种金属薄膜退镀方法及系统

说明书

本发明提供了一种金属薄膜退镀方法及系统，其中方法包括步骤S00根据压印有全息图光栅微结构的金属薄膜的参数设置电解液的参数；步骤S10将所述压印有全息图光栅微结构的金属薄膜放置于有所述电解液的电解电场中进行退镀；步骤S20在预设条件下，将所述压印有全息图光栅微结构的金属薄膜的无光栅微结构区域退镀成透明状态。系统包括退镀装置；所述退镀装置包括电解液水槽、电极、直流电源。本发明通过将压印有全息图光栅微结构的金属薄膜放置于有电解液的电解电场中，实现精准选择性退镀的目的。

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术领域，尤指一种金属薄膜退镀方法及系统。

背景技术

真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属材料)。在所有被镀材料中，以塑料薄膜最为常见，在塑料薄膜表面蒸镀一层极薄的金属薄膜，即可赋予塑料程亮的金属外观，合适的金属源还可大大增加材料表面耐磨性能，大大拓宽了塑料的装饰性和应用范围。但是，随着人们对美好外观的追求，单纯的金属色已不能满足装饰需求，希望能有特定的图案来表现金属光泽，即有图案的部分有金属镀膜，而图案以外的部分无金属膜呈现透明效果，这样使包装更加丰富多彩更具观赏性和营销效果。

现有许多工艺方法可以达到这样的结果。方法一，通过在金属镀铝膜面上印刷油墨起到保护作用，然后再将镀膜浸入1％-3％的氢氧化钠刻蚀溶液中，经过化学反应生成氢氧化铝后使镀铝层退掉膜变透明。方法二，首先在透明的薄膜上以一种水溶性油墨印刷所要图案的反相图作为遮盖掩膜，然后再去真空镀铝，这时镀铝层有部分直接镀在薄膜表面，也有镀在油墨之上的部分，当镀膜浸入水溶液时，由于水溶性油墨溶于水，而将附着其上的镀铝层脱落而形成透明区域，达到局部金属图案的效果。另外，在全息防伪行业，为提高防伪标识的安全等级，提出了更加精细的定位脱铝解决方案，比如，在已经模压有全息图的真空镀铝薄膜上再按上述两种工艺方式精准套印，而达到全息图案与定位脱铝图案的完美结合，使防伪等级更高一层。但这种工艺的定位精度取决于全息膜卷的加工精度和印刷设备与工艺的套印精度。以上方法的缺点是全息图和精细脱铝图像不是一次设计制作，会受加工、套印等影响，产生一定的定位误差，难以达到更为复杂、精细的全息脱铝图像的工艺要求。

针对上述情况，本申请提供了一种解决以上技术问题的技术方案。

发明内容

本发明的目的是提供一种金属薄膜退镀方法及系统，通过将压印有全息图光栅微结构的金属薄膜放置于有电解液的电解电场中，实现精准选择性退镀。

本发明提供的技术方案如下：

一种金属薄膜退镀方法，包括：步骤S00根据压印有全息图光栅微结构的金属薄膜的参数设置电解液的参数；步骤S10将所述压印有全息图光栅微结构的金属薄膜放置于有所述电解液的电解电场中进行退镀；步骤S20在预设条件下，将所述压印有全息图光栅微结构的金属薄膜的无光栅微结构区域退镀成透明状态。

优选的，所述压印有全息图光栅微结构的金属薄膜的金属镀层的厚度为30纳米以下。

优选的，所述电解液的成分包括至少1种盐，浓度设置为0-38％。

优选的，所述电解液的成分还包括至少1种表面活性剂，浓度设置为0-0.05％。

优选的，所述电解电场包括电流密度设置为0-0.5安培每平方米，电压设置为2-10伏特。

优选的，步骤S20中在预设条件下包括：预设时间，所述预设时间设置为0-100秒。

优选的，步骤S20中在预设条件下还包括：预设温度，所述预设温度设置为20-65摄氏度。

优选的，步骤S20之后还包括：步骤S30将经过退镀的所述压印有全息图光栅微结构的金属薄膜浸入水中进行清洗。