[发明专利]用于平板式PECVD的进气管道保护结构

说明书

本发明涉及管道保护结构，旨在提供一种用于平板式PECVD的进气管道保护结构。该种用于平板式PECVD的进气管道保护结构，包括进气座、防尘罩拨板、防尘罩、螺杆、挂钩和重锤。本发明采用纯机械机构设计，结构简单稳定，后期维护成本低廉；本发明能有效解决金属软管在经过多次弯折后易出现裂纹的缺陷，减少因气体泄露而导致设备停机的时间，间接给企业降低生产及维护的成本；本发明可大大减少企业的库存配件，直接给企业降低生产成本。

技术领域

本发明是关于管道保护结构领域，特别涉及用于平板式PECVD的进气管道保护结构。

背景技术

PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)即等离子体增强化学气相沉积技术，是指借助微波或射频使含有薄膜组成原子的气体发生电离在局部形成等离子体，借助等离子体活泼易反应的化学特性在基片上沉积出所期望的薄膜。该技术被广泛应用于晶体硅太阳能电池的生产中。

现有的平板式PECVD上镀膜进气的方式一般采用在腔室侧边法兰上焊接进气管道，腔室内部则通过金属软管与腔体盖板上的进气管道进行连接。在对腔体内部进行清理维护检查等操作过程中，需打开盖板；在镀膜生产前，则需关闭盖板，保证腔体内部的真空密封。这样连接方式导致在长时间使用后，出现在盖板多次开合的状态下，金属软管的发生弯折。一旦弯折处发生泄漏，则进入沉积罩的反应气体就会无法得到控制，设备镀膜均匀性无法得到保证。由于镀膜是连续性生产的，所以会造成一批次镀膜硅片报废，给生产企业直接带来较大的经济损失。特别是在泄漏发生后设备维护需要花费大量的人力和时间，间接给生产企业带来巨大的经济损失。

发明内容

本发明的主要目的在于克服现有技术中的不足，提供一种用于平板式PECVD的进气管道保护结构。为解决上述技术问题，本发明的解决方案是：

提供一种用于平板式PECVD的进气管道保护结构，包括进气座、防尘罩拨板、防尘罩、螺杆、挂钩和重锤；

所述进气座包括上进气组件和下进气组件，进气座内至少安装三个进气活塞(因一般需进三种不同的特气，故各进气座内都安装有三个进气活塞，但也可根据进气需要，调整进气活塞数量)，每个进气活塞包括上进气组件中的上进气活塞和下进气组件中的下进气活塞；

所述上进气组件包括上进气座、上进气活塞、上压缩弹簧；上进气座通过螺栓固定安装于平板式PECVD的腔体盖板上，使上进气组件固定在腔体盖板内壁前端；上进气活塞通过上压缩弹簧固定在上进气座上：上压缩弹簧的一端通过弹性形变将上进气活塞压在上进气座内，另一端压在腔体盖板上；上进气活塞内设有气孔，用于平板式PECVD设备工艺气体的输送；上进气座固定在腔体盖板上，当腔体盖板闭合时，上进气活塞气孔的下端与下进气活塞内气孔对接；

所述下进气组件包括下进气座、下进气活塞、下压缩弹簧、下进气座盖板；下进气座通过螺栓固定安装于平板式PECVD的腔体内壁上；下进气活塞通过下压缩弹簧和下进气座盖板，安装在下进气座内：下进气活塞的下端安装有下压缩弹簧，下进气活塞的上端安装有下进气座盖板，下进气座盖板固定在下进气座上，通过下压缩弹簧的弹性形变，实现下进气活塞的上下运动；下进气活塞上设有凸台，下进气座盖板上设有孔，通过该凸台与孔的配合，实现下进气活塞的限位；下进气活塞内开有贯穿的气孔，气孔上端的外圆周上安装有O型密封圈，用于实现上进气活塞与下进气活塞之间的密封连接，气孔下端用于和进气管道连接，从而实现下进气组件的进气功能；

所述防尘罩通过销轴安装于下进气座上，用于防尘和保护下进气组件；防尘罩下方通过挂钩挂有重锤；螺杆插于防尘罩上，并利用螺母固定；