[发明专利]一种铜工艺品的保存方法在审
申请号: | 201711343864.3 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN107971193A | 公开(公告)日: | 2018-05-01 |
发明(设计)人: | 徐志明 | 申请(专利权)人: | 徐志明 |
主分类号: | B05D5/00 | 分类号: | B05D5/00;B05D7/14;B05D7/24 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 335400 江西省鹰*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 工艺品 保存 方法 | ||
技术领域
本发明涉及铜工艺品的保存,具体地,涉及一种铜工艺品的保存方法。
背景技术
目前,铜工艺品的保存一直是较难解决的问题,每年也会有大量的铜工艺品因保存不当而毁损;一般地,将铜工艺品直接放置在空气中会容易受到空气中的杂质腐蚀,且保存时间较短。
因此,提供一种能够增加保存时间且不使铜工艺品受空气中杂质腐蚀的保存方法是本发明亟需解决的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种铜工艺品的保存方法,该种保存方法能够使铜工艺品不受空气中杂质的腐蚀,进而增加保存时间。
为了实现上述目的,本发明提供了一种铜工艺品的保存方法,所述保存方法包括以下步骤:
步骤一、将铜工艺品放入至氧化银溶液中浸泡,以使得所述铜工艺品的表面附着氧化银薄膜;
步骤二、将所述铜工艺品的表面用棉布包裹;
步骤三、将用棉布包裹的铜工艺品放置在干燥空间内,且所述干燥空间的湿度保持在50%以下。
优选地,在步骤一之后,步骤二之前还包括,在所述铜工艺品的表面涂石蜡层。
优选地,在所述铜工艺品的表面涂石蜡层之前,将所述铜工艺品加热至5-15℃。
优选地,在步骤一之后,步骤二之前还包括,在所述铜工艺品的表面涂硅层。
优选地,在步骤一之前还包括将所述铜工艺品用蒸馏水清洗。
优选地,所述蒸馏水的温度设置为20-30℃。
根据上述技术方案,本发明先将铜工艺品放入至氧化银溶液中浸泡,以使得在铜工艺品的表面附着一层氧化银薄膜,该氧化银薄膜能够封闭铜工艺品的表面,达到控制腐蚀的目的,此外,为防止铜工艺品受到机械性的损坏,在铜工艺品的表面用棉布包裹,之后再将用棉布包裹的铜工艺品放置在干燥空间内,并且该干燥空间的湿度需保持在50%以下,这样能够降低铜工艺品受空气中的杂质和灰尘污染,以增加保存时间,同时还不会受到空气中杂质的腐蚀。
本发明的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
具体实施方式
以下对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明,并不用于限制本发明。
在本发明中,在未作相反说明的情况下, “上、下、左、右、内、外”等包含在术语中的方位词仅代表该术语在常规使用状态下的方位,或为本领域技术人员理解的俗称,而不应视为对该术语的限制。
本发明提供一种铜工艺品的保存方法,所述保存方法包括以下步骤:步骤一、将铜工艺品放入至氧化银溶液中浸泡,以使得所述铜工艺品的表面附着氧化银薄膜;步骤二、将所述铜工艺品的表面用棉布包裹;步骤三、将用棉布包裹的铜工艺品放置在干燥空间内,且所述干燥空间的湿度保持在50%以下。本发明的宗旨是为了防止在保存铜工艺品时,空气中的杂质会腐蚀铜工艺品。具体的保存方法是这样的,先将铜工艺品放入到氧化银中浸泡,以使得铜工艺品的表面附着一层氧化银薄膜,该氧化银薄膜能够封闭铜工艺品的表面,达到控制腐蚀的目的,此外,为防止铜工艺品受到机械性的损坏,在铜工艺品的表面用棉布包裹,之后再将用棉布包裹的铜工艺品放置在干燥空间内,并且该干燥空间的湿度需保持在50%以下,这样能够降低铜工艺品受空气中的杂质和灰尘污染,以增加保存时间,同时还不会受到空气中杂质的腐蚀。
在一种优选的实施方式中,在步骤一之后,步骤二之前还包括,在所述铜工艺品的表面涂石蜡层。为进一步防止空气中的杂质接触到铜工艺品的表面,在铜工艺品的表面已经附着有一层氧化银薄膜时,还在其表面涂上石蜡层。在一种更为优选的实施方式中,为方便石蜡附着在铜工艺品的表面,在所述铜工艺品的表面涂石蜡层之前,将所述铜工艺品加热至5-15℃。在该种温度下,石蜡较容易附着在铜工艺品的表面上。
在另外一种优选的实施方式中,在步骤一之后,步骤二之前还包括,在所述铜工艺品的表面涂硅层。这样也能够进一步防止空气中的杂质接触到铜工艺品的表面。
此外,在步骤一之前还包括将所述铜工艺品用蒸馏水清洗。这样,能够将铜工艺品中附着的灰尘颗粒用蒸馏水清洗,之后再将之放入氧化银溶液中,进一步防止铜工艺品受腐蚀。在一种更为优选的实施方式中,所述蒸馏水的温度设置为20-30℃。在该种温度下,铜工艺品表面附着的灰尘颗粒更容易被清洗。
以上详细描述了本发明的优选实施方式,但是,本发明并不限于上述实施方式中的具体细节,在本发明的技术构思范围内,可以对本发明的技术方案进行多种简单变型,这些简单变型均属于本发明的保护范围。
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