[发明专利]一种石墨舟对中装置

说明书

本发明是一种石墨舟对中装置，包括石墨舟盖板，石墨舟底盘，石墨舟盖板对中模块，石墨舟底盘对中模块和底座；其中，石墨舟盖板对中模块和石墨舟底盘对中模固定于底座上，石墨舟盖板盖于石墨舟底盘上，石墨舟底盘通过石墨舟盖板对中模块和石墨舟底盘对中模块对中于底座上。优点：1、在不增加机械手步骤降低产能的情况下完成石墨舟的对中。2、解决了由于设备老化、不稳定导致石墨舟位置变动导致的晶片报废的情况。3、提高了石墨舟在腔室内位置的稳定性。

技术领域

本发明涉及一种石墨舟对中装置，属于半导体技术领域。

背景技术

在半导体晶圆制备中，器件与外部的连接需要具有欧姆接触的金属电极来完成，因此在金属蒸发后需要快速退火来改善金属与半导体欧姆接触。对于化合物晶片的制程一般要在200℃-900℃，而快速退火炉是进行金属电极合金化的核心设备。由于化合物半导体材料不能像硅片那样充分吸收光的能量，所以在化合物半导体退火工艺中，我们通常将晶片放置到石墨舟里，然后再将石墨舟放置腔室内进行工艺。

原有结构由于设备的使用与老化，机械手的传输不一定那么稳定，或者机械的水平、设备的水平发生问题的时候，不可避免的会发生石墨舟的盖板偏移、底盘偏移。这样会严重影响合金、退火晶片的均匀性，导致晶片报废。偏移更有甚者会导致盖板掉落破碎，或者压到晶片导致晶片破裂。通常做法会对晶片做一个对中，但是目前还未有对载具做对中的方案。

发明内容

本发明提出了一种石墨舟对中装置，旨在通过结构设计实现石墨舟底盘及盖板的自对中，减少晶片碎片，提高工艺稳定性。

本发明的技术方案：

一种石墨舟对中装置，其结构包括石墨舟盖板1，石墨舟底盘9，石墨舟盖板对中模块10，石墨舟底盘对中模块11和底座6；其中，石墨舟盖板对中模块10和石墨舟底盘对中模块11固定于底座6上，石墨舟盖板1盖于石墨舟底盘9上，石墨舟底盘9通过石墨舟盖板对中模块10和石墨舟底盘对中模块11对中于底座6上。

本发明的有益效果：

1、在不增加机械手步骤降低产能的情况下完成石墨舟的对中。

2、解决了由于设备老化、不稳定导致石墨舟位置变动导致的晶片报废的情况。

3、提高了石墨舟在腔室内位置的稳定性。

附图说明

图1是石墨舟对中装置结构的爆炸图。

图2是石墨舟对中装置结构的合成图。

图3是底盘的俯视图。

图4是石墨舟盖板对中模块的正视图。

图5是石墨舟底盘对中模块的正视图。

图中1是石墨舟盖板；2是晶片；6是底座； 9是石墨舟底盘；10是石墨舟盖板对中模块；11是石墨舟底盘对中模块；12是石墨舟盖板对中模块预留槽；13是石墨舟盖板取样槽；14是石墨舟盖板边槽；15是晶片边槽；16是取晶片预留槽；17是石墨舟盖板导轨槽；18是石墨舟盖板支撑面；19是晶片支撑片；20是石墨舟底盘下降导柱；21是石墨舟底盘下降对中斜面；22是石墨舟底盘支撑面。

具体实施方式

一种石墨舟对中装置，包括石墨舟盖板1，石墨舟底盘9，石墨舟盖板对中模块10，石墨舟底盘对中模块11和底座6；其中，石墨舟盖板对中模块10和石墨舟底盘对中模块11固定于底座6上，石墨舟盖板1盖于石墨舟底盘9上，石墨舟底盘9通过石墨舟盖板对中模块10和石墨舟底盘对中模块11对中于底座6上。

所述石墨舟盖板对中模块10有3个。

所述石墨舟底盘对中模块11有3个。