[发明专利]一种透明导电膜及其电子装置

权利要求书

1.一种透明导电膜，其特征在于，所述透明导电膜包括由下往上层叠设置的透明基材、第一透明电介质层、水汽阻隔层、金属合金层和第二透明电介质层，所述水汽阻隔层的材料为金属、金属氮化物、金属氧化物中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述水汽阻隔层的材料为Ti、Ni、Cr、NiCr、TiN、ZnO、TiO2、SnO2、SiO2、Nb2O5、Ta2O5、Si3N4中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述第一透明电介质层与所述第二透明电介质层各自独立的选自如下材料：

金属氧化物、氮化物、硫化物中的至少一种或所述金属氧化物、氮化物、硫化物中至少一种的掺杂物。

4.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述金属合金层为Ag合金层或Cu合金层，所述Ag合金层中Ag的比例不小于80％，所述Cu合金层中Cu的比例不小于80％。

5.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述透明基材的厚度为0.01～1mm，所述第一透明电介质层与所述第二透明电介质层的厚度各自独立的选自10～100nm，所述金属合金层的厚度为5～20nm，所述水汽阻隔层的厚度为0.1～20nm。

6.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述透明导电膜在可见光范围内的透射率大于70％且阻值小于300Ω。

7.根据权利要求6所述的透明导电膜，其特征在于，所述透明导电膜在可见光范围内的透射率不小于80％，所述透明导电膜的阻值不大于15Ω且在240h温度85℃，湿度85％RH条件下耐候性测试满足阻值与透过率变化率比值不大于1.2。

8.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述透明导电膜包括由下往上层叠设置的Nb2O5层、AZO层、Ag合金层和ITO层。

9.根据权利要求8所述的透明导电膜，其特征在于，所述Nb2O5层、AZO层、Ag合金层和ITO层的厚度分别为50nm、6nm、10nm和60nm。

10.一种电子装置，其特征在于，包括如权利要求1至9中任一项所述的透明导电膜。