[发明专利]一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low‑E玻璃

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃生产技术领域，具体涉及一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃。

背景技术

现有技术中的可钢化双银Low-E玻璃，其采用的膜层结构一般为：SiN_x/AZO/NiCr/Ag/NiCr/AZO/SiN_x/AZO/NiCr/Ag/NiCr/AZO/SiN_x；此种膜层结构生产出的可钢化双银Low-E玻璃的透过率通常小于70％，为了做到高透过率，必须降低Ag层和NiCr层的厚度，由此造成这种产品的辐射率也偏高，现有技术中可钢化双银Loe-E玻璃的辐射率通常高于0.06，现有技术中的可钢化双银Low-E玻璃无法兼具高透过率和低辐射率的优点。

发明内容

本发明提供一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，其在不减薄原有膜层结构中银层或镍铬层厚度的情况下，通过优化膜层结构，使双银Low-E玻璃兼具高透过率和低辐射率的优点。

为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，包括玻璃基体和镀设于所述玻璃基体一侧表面的复合膜层，所述复合膜层包括自所述玻璃基体表面朝外依次沉积的第一SiN_x层、第一ZnO_x层、第一NiCr层、第一Ag层、第二NiCr层、第一AZO层、第二SiN_x层、ZnSnO_x层、第二ZnO_x层、第三NiCr层、第二Ag层、第四NiCr层、第二AZO层和第三SiN_x层。

进一步的，所述复合膜层由自所述玻璃基体表面朝外依次沉积的所述第一SiN_x层、所述第一ZnO_x层、所述第一NiCr层、所述第一Ag层、所述第二NiCr层、所述第一AZO层、所述第二SiN_x层、所述ZnSnO_x层、所述第二ZnO_x层、所述第三NiCr层、所述第二Ag层、所述第四NiCr层、所述第二AZO层和所述第三SiN_x层组成。

进一步的，所述第一ZnO_x层的厚度为1-30nm，所述ZnSnO_x层的厚度为10-50nm，所述第二ZnO_x层的厚度为1-30nm。

进一步的，所述第一ZnO_x层的厚度为10-25nm，所述ZnSnO_x层的厚度为20-40nm，所述第二ZnO_x层的厚度为10-25nm。

进一步的，所述第一SiN_x层的厚度为10-30nm，所述第一NiCr层的厚度为0.1-5nm、所述第一Ag层的厚度为0.5-20nm，所述第二NiCr层的厚度为0.1-5nm、所述第一AZO层的厚度为1-20nm、所述第二SiN_x层的厚度为10-50nm、所述第三NiCr层的厚度为0.1-5nm、所述第二Ag层的厚度为0.5-20nm、所述第四NiCr层的厚度为0.1-5nm、所述第二AZO层的厚度为1-20nm、所述第三SiN_x层的厚度为10-50nm。

进一步的，所述第一SiN_x层的厚度为15-25nm，所述第一NiCr层的厚度为1-3nm、所述第一Ag层的厚度为5-15nm，所述第二NiCr层的厚度为1-3nm、所述第一AZO层的厚度为5-16nm、所述第二SiN_x层的厚度为20-40nm、所述第三NiCr层的厚度为1-3nm、所述第二Ag层的厚度为5-15nm、所述第四NiCr层的厚度为1-3nm、所述第二AZO层的厚度为5-16nm、所述第三SiN_x层的厚度为20-40nm。