[发明专利]一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low‑E玻璃

权利要求书

1.一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，包括玻璃基体和镀设于所述玻璃基体一侧表面的复合膜层，其特征在于：所述复合膜层包括自所述玻璃基体表面朝外依次沉积的第一SiN_x层、第一ZnO_x层、第一NiCr层、第一Ag层、第二NiCr层、第一AZO层、第二SiN_x层、ZnSnO_x层、第二ZnO_x层、第三NiCr层、第二Ag层、第四NiCr层、第二AZO层和第三SiN_x层。

2.根据权利要求1所述的一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，其特征在于：所述复合膜层由自所述玻璃基体表面朝外依次沉积的所述第一SiN_x层、所述第一ZnO_x层、所述第一NiCr层、所述第一Ag层、所述第二NiCr层、所述第一AZO层、所述第二SiN_x层、所述ZnSnO_x层、所述第二ZnO_x层、所述第三NiCr层、所述第二Ag层、所述第四NiCr层、所述第二AZO层和所述第三SiN_x层组成。

3.根据权利要求1所述的一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，其特征在于：所述第一ZnO_x层的厚度为1-30nm，所述ZnSnO_x层的厚度为10-50nm，所述第二ZnO_x层的厚度为1-30nm。

4.根据权利要求3所述的一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，其特征在于：所述第一ZnO_x层的厚度为10-25nm，所述ZnSnO_x层的厚度为20-40nm，所述第二ZnO_x层的厚度为10-25nm。

5.根据权利要求3或4所述的一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，其特征在于：所述第一SiN_x层的厚度为10-30nm，所述第一NiCr层的厚度为0.1-5nm、所述第一Ag层的厚度为0.5-20nm，所述第二NiCr层的厚度为0.1-5nm、所述第一AZO层的厚度为1-20nm、所述第二SiN_x层的厚度为10-50nm、所述第三NiCr层的厚度为0.1-5nm、所述第二Ag层的厚度为0.5-20nm、所述第四NiCr层的厚度为0.1-5nm、所述第二AZO层的厚度为1-20nm、所述第三SiN_x层的厚度为10-50nm。

6.根据权利要求5所述的一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，其特征在于：所述第一SiN_x层的厚度为15-25nm，所述第一NiCr层的厚度为1-3nm、所述第一Ag层的厚度为5-15nm，所述第二NiCr层的厚度为1-3nm、所述第一AZO层的厚度为5-16nm、所述第二SiN_x层的厚度为20-40nm、所述第三NiCr层的厚度为1-3nm、所述第二Ag层的厚度为5-15nm、所述第四NiCr层的厚度为1-3nm、所述第二AZO层的厚度为5-16nm、所述第三SiN_x层的厚度为20-40nm。

7.根据权利要求1所述的一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，其特征在于：所述复合膜层为由自所述玻璃基体的表面向外依次层叠的第一SiN_x层/第一ZnO_x层/第一NiCr层/第一Ag层/第二NiCr层/第一AZO层/第二SiN_x层/ZnSnO_x层/第二ZnO_x层/第三NiCr层/第二Ag层/第四NiCr层/第二AZO层/第三SiN_x层组成，所述复合膜层中各膜层的厚度分别为24nm/10nm/1.5nm/6.4nm/2nm/10nm/25nm/35nm/20nm/2.9nm/12.3nm/1nm/12nm/25nm。