[发明专利]一种光射野一致性检测模体、方法、装置及设备

权利要求书

1.一种光射野一致性检测模体，其特征在于，所述模体包括底座，所述底座的表面具有十字刻线，所述十字刻线的中心交点镶嵌有高衰减标记物。

2.根据权利要求1所述的光射野一致性检测模体，其特征在于，所述底座的材料为低衰减材料，所述低衰减材料包括有机玻璃。

3.根据权利要求1所述的光射野一致性检测模体，其特征在于，所述高衰减标记物包括金属材质的球体。

4.一种光射野一致性检测方法，其特征在于，所述方法包括：

控制限束器的开口为任意开口大小，得到一射野；

控制电子射野影像系统EPID拍摄投影图像，作为所述射野的射野分布图；

保持所述限束器的开口大小不变，并控制光野灯打开，得到一光野；

利用至少四个上述权利要求1-3中任一种模体，确定所述光野的顶点位置；

控制所述EPID再次拍摄投影图像，作为所述光野的顶点分布图，所述顶点分布图上包括所述光野的顶点位置的投影；

根据所述射野分布图和所述顶点分布图，确定所述光野和所述射野之间的偏差信息。

5.根据权利要求4所述的光射野一致性检测方法，其特征在于，所述将所述EPID拍摄投影图像，确定为所述光野的顶点分布图，所述顶点分布图上包括所述光野的顶点位置的投影之前，还包括：

扩大所述限束器的开口大小。

6.根据权利要求4所述的光射野一致性检测方法，其特征在于，所述利用至少四个上述权利要求1-3中任一种模体，确定所述光野的顶点位置，包括：

控制至少四个上述权利要求1-3中任一种模体的十字刻线，分别与所述光野的边界重合，且控制所述模体的高衰减标记物，分别与所述光野的顶点位置进行对准。

7.根据权利要求4所述的光射野一致性检测方法，其特征在于，所述根据所述射野分布图和所述顶点分布图，确定所述光野和所述射野之间的偏差信息，包括：

根据所述顶点分布图中的顶点位置的投影，确定所述光野的边界；

确定所述射野分布图中所述射野的边界与所述光野的边界中，具有对应关系的边界；

分别计算每对具有对应关系的边界之间的距离，作为所述光野和所述射野之间的偏差信息。

8.根据权利要求7所述的光射野一致性检测方法，其特征在于，所述确定所述射野分布图中所述射野的边界与所述光野的边界中，具有对应关系的边界，包括：

获取所述射野分布图中所述射野的各个边界的边界方程，以及获取所述光野的各个边界的边界方程；

将斜率之差小于预设第一阈值，且截距之差小于预设第二阈值的边界方程对应的边界，确定为具有对应关系的边界。

9.根据权利要求4所述的光射野一致性检测方法，其特征在于，所述根据所述射野分布图和所述顶点分布图，确定所述光野和所述射野之间的偏差信息，包括：

确定所述射野分布图中所述射野的顶点位置；

确定具有对应关系的所述光野的顶点位置与所述射野的顶点位置；

分别计算每对具有对应关系的顶点位置之间的距离，作为所述光野和所述射野之间的偏差信息。

10.一种光射野一致性检测装置，其特征在于，所述装置包括：

第一控制单元，用于控制限束器的开口为任意开口大小，得到一射野；

第二控制单元，用于在得到所述射野后，控制电子射野影像系统EPID拍摄投影图像，作为所述射野的射野分布图；在得到光野且确定所述光野的顶点位置后，控制所述EPID拍摄投影图像，作为所述光野的顶点分布图，所述顶点分布图上包括所述光野的顶点位置的投影；所述光野的顶点位置由至少四个上述权利要求1-3中任一种模体确定；

第三控制单元，用于保持所述限束器的开口大小不变，并控制光野灯打开，得到一光野；

确定单元，用于根据所述射野分布图和所述顶点分布图，确定所述光野和所述射野之间的偏差信息。

11.一种光射野一致性检测设备，其特征在于，所述设备包括：存储器和处理器，

所述存储器用于存储程序代码，并将所述程序代码传输给所述处理器；

所述处理器用于根据所述程序代码中的指令，执行以下步骤：

控制限束器的开口为任意开口大小，得到一射野；

控制电子射野影像系统EPID拍摄投影图像，作为所述射野的射野分布图；

保持所述限束器的开口大小不变，并控制光野灯打开，得到一光野；

利用至少四个上述权利要求1-3中任一种模体，确定所述光野的顶点位置；

控制所述EPID再次拍摄投影图像，作为所述光野的顶点分布图，所述顶点分布图上包括所述光野的顶点位置的投影；

根据所述射野分布图和所述顶点分布图，确定所述光野和所述射野之间的偏差信息。