[发明专利]一种遥感图像相对辐射校正方法及系统有效

专利信息
申请号: 201710367987.4 申请日: 2017-05-23
公开(公告)号: CN107220947B 公开(公告)日: 2020-02-11
发明(设计)人: 胡昌苗;白洋;唐娉;张正;李宏益;赵理君 申请(专利权)人: 中国科学院遥感与数字地球研究所
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00
代理公司: 11569 北京高沃律师事务所 代理人: 王戈
地址: 100000 北京市朝阳区大屯*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 遥感 图像 相对 辐射 校正 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种遥感图像相对辐射校正方法,其特征在于,包括以下步骤:

获取目标图像;

根据所述目标图像确定与所述目标图像相对应的参考图像;

所述根据所述目标图像确定与所述目标图像相对应的参考图像的具体步骤包括:根据与所述目标图像具有相同重叠区域、近似成像几何、坐标范围的图像确定为与所述目标图像相对应的参考图像;

分别对所述参考图像、所述目标图像进行预处理后,获得对应所述参考图像的参考图像像素点集和对应所述目标图像的目标图像像素点集;

基于核典型相关分析方法根据所述参考图像像素点集和所述目标图像像素点集确定非线性辐射控制点;

根据所述非线性辐射控制点对所述目标图像各波段像素点进行校正,获得地表反射率值;

所述根据所述非线性辐射控制点对所述目标图像各波段像素点进行校正,获得地表反射率值的具体步骤包括:

对所述非线性辐射控制点进行非线性关系拟合获得非线性拟合公式;

所述对所述非线性辐射控制点进行非线性关系拟合获得非线性拟合公式具体步骤包括:

根据偏差平方和最小公式对所述非线性辐射控制点进行非线性关系拟合获得非线性拟合公式;

所述偏差平方和最小公式为:

其中,δi为第i个非线性辐射控制点的偏差,ri为第i个非线性辐射控制点的原始目标图像像素值,f(ri)为将第i个非线性辐射控制点的原始目标图像像素值代入拟合的非线性关系表达式后,计算得到的像素值,si为第i个非线性辐射控制点对应的参考图像像素值,R为非线性辐射控制点的总个数;

根据所述非线性拟合公式对所述目标图像各波段像素点进行校正,获得地表反射率;

所述基于核典型相关分析方法根据所述参考图像像素点集和所述目标图像像素点集确定非线性辐射控制点的具体步骤包括:

分别将所述参考图像像素点集、所述目标图像像素点集映射到核空间,利用核典型相关分析方法确定参考图像核典型变量、目标图像核典型变量;

基于MAD中的权重公式对所述参考图像核典型变量、所述目标图像核典型变量进行筛选,确定非线性辐射控制点;

所述权重公式为:

其中:U为映射到高维特征空间的目标图像核典型变量集合,Ui为U的第i个元素,V为映射到高维特征空间的参考图像核典型变量集合,Vi是V的第i个元素,Var()为方差,Z为标准化后的方差,ρλi为第i个特征根,为卡方检验,Pr(nochange)为不变像素点的概率值,N为重叠区域的点的个数。

2.一种遥感图像辐射校正系统,其特征在于,包括:

获取模块,用于获取目标图像;

匹配模块,用于根据所述目标图像确定与所述目标图像相对应的参考图像;

所述匹配模块具体包括:根据与所述目标图像具有相同重叠区域、近似成像几何、坐标范围的图像确定为与所述目标图像相对应的参考图像;

处理模块,用于分别对所述参考图像、所述目标图像进行预处理后,获得对应所述参考图像的参考图像像素点集和对应所述目标图像的目标图像像素点集;

非线性辐射控制点确定模块,用于基于核典型相关分析方法根据所述参考图像像素点集和所述目标图像像素点集确定非线性辐射控制点;

校正模块,用于根据所述非线性辐射控制点对所述目标图像各波段像素点进行校正,获得地表反射率值;

所述校正模块具体包括:

拟合单元,用于对所述非线性辐射控制点进行非线性关系拟合获得非线性拟合公式;

校正单元,用于根据所述非线性拟合公式对所述目标图像各波段像素点进行校正,获得地表反射率;

所述拟合单元具体包括:

根据偏差平方和最小公式对所述非线性辐射控制点进行非线性关系拟合获得非线性拟合公式;

所述偏差平方和最小公式为:

其中,δi为第i个非线性辐射控制点的偏差,ri为第i个非线性辐射控制点的原始目标图像像素值,f(ri)为将第i个非线性辐射控制点的原始目标图像像素值代入拟合的非线性关系表达式后,计算得到的像素值,si为第i个非线性辐射控制点对应的参考图像像素值,R为非线性辐射控制点的总个数;

根据所述非线性拟合公式对所述目标图像各波段像素点进行校正,获得地表反射率;

所述非线性辐射控制点确定模块的具体包括:

第一确定单元,用于分别将所述参考图像像素点集、所述目标图像像素点集映射到核空间,利用核典型相关分析方法确定参考图像核典型变量、目标图像核典型变量;

第二确定单元,用于基于MAD中的权重公式对所述参考图像核典型变量、所述目标图像核典型变量进行筛选,确定非线性辐射控制点;

所述权重公式为:

其中:U为映射到高维特征空间的目标图像核典型变量集合,Ui为U的第i个元素,V为映射到高维特征空间的参考图像核典型变量集合,Vi是V的第i个元素,Var()为方差,Z为标准化后的方差,ρλi为第i个特征根,为卡方检验,Pr(nochange)为不变像素点的概率值,N为重叠区域的点的个数。

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