[发明专利]液体喷射头以及液体喷射装置在审
申请号: | 201710363726.5 | 申请日: | 2017-05-22 |
公开(公告)号: | CN107415468A | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
发明(设计)人: | 小澤欣也;原和彦 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B41J2/00 | 分类号: | B41J2/00 |
代理公司: | 北京金信知识产权代理有限公司11225 | 代理人: | 苏萌萌,许梅钰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液体 喷射 以及 装置 | ||
1.一种液体喷射头,其特征在于,具有喷嘴形成面,所述喷嘴形成面上开口有喷射液体的喷嘴部,
在所述液体喷射头中,
所述喷嘴部的与所述液体接触时的带电性低于所述喷嘴形成面的与所述液体接触时的带电性。
2.如权利要求1所述的液体喷射头,其特征在于,
所述喷嘴部上的每单位面积的氟的量与所述喷嘴形成面上的每单位面积的氟的量相比而较少。
3.如权利要求1所述的液体喷射头,其特征在于,
所述喷嘴部具有所述液体的喷射方向上的上游侧的第一区域和下游侧的第二区域,
每单位面积的氟的量按照所述喷嘴形成面、所述第二区域以及所述第一区域的顺序而依次变少。
4.如权利要求3所述的液体喷射头,其特征在于,
所述第二区域被形成在所述喷嘴形成面上,
所述喷嘴部在所述第二区域内开口。
5.如权利要求3所述的液体喷射头,其特征在于,
含有氟的防液膜被形成在所述喷嘴形成面以及所述第二区域上,
该第二区域上的所述防液膜的厚度与所述喷嘴形成面上的所述防液膜的厚度相比而较薄。
6.如权利要求1所述的液体喷射头,其特征在于,
所述喷嘴形成面由硅基板或者金属材料构成,
含有氟的防液膜隔着基底膜而被形成在所述喷嘴形成面上,
所述基底膜具有厚度与其他部分相比而较薄的薄膜区域,
所述喷嘴部在所述薄膜区域内开口。
7.一种液体喷射装置,其特征在于,具备:
权利要求1至权利要求6中的任意一项所述的液体喷射头。
8.如权利要求7所述的液体喷射装置,其特征在于,
具备加压单元,所述加压单元对与所述液体喷射头相比靠上游侧的液体供给路径进行加压,
通过所述加压单元对所述液体供给路径实施的加压,从而能够执行从所述液体喷射头的所述喷嘴部排出液体的清洁处理。
9.如权利要求7所述的液体喷射装置,其特征在于,具备:
多个所述液体喷射头,多个所述液体喷射头从所述喷嘴部喷射的液体的导电率是不同的;
输送机构,其对所述液体的喷落对象进行输送,
各个所述液体喷射头从所述喷落对象的输送方向上的上游侧朝向下游侧而以所述液体的导电率从高至低的顺序依次配置。
10.如权利要求9所述的液体喷射装置,其特征在于,
所述输送机构具有支承体,所述支承体为鼓状,其通过以将所述喷落对象支承在外周面上的状态而进行旋转从而对所述喷落对象进行输送。
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