[发明专利]一种应用石墨烯电极在GaN自支撑衬底上制备AlGaN肖特基日盲紫外探测器的方法有效

专利信息
申请号: 201710342853.7 申请日: 2017-05-16
公开(公告)号: CN107195724B 公开(公告)日: 2019-01-11
发明(设计)人: 杨国锋;陆亚男;姚楚君;汪金;孙锐;钱维莹 申请(专利权)人: 江南大学
主分类号: H01L31/108 分类号: H01L31/108;H01L31/0304
代理公司: 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 代理人: 张勇
地址: 214122 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
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【说明书】:

发明涉及一种应用石墨烯电极在GaN自支撑衬底上制备AlGaN肖特基日盲紫外探测器的方法,其中制作方法包括:先通过氢化物化学气相制备自支撑衬底GaN,在GaN自支撑衬底上依次沉积N型重掺杂高Al组分的AlGaN层、N型轻掺杂高Al组分的AlGaN层。然后在结构背面,通过电子束蒸发制作欧姆接触的背电极,在N型轻掺杂AlGaN层上制备石墨烯肖特基接触,并且用剥离技术制作圆形图案。最后在整个结构顶部沉积一层钝化层,并刻蚀部分钝化层至石墨烯肖特基接触表面,然后沉积金属盖帽层。本发明兼顾目前的工艺生产流程,将高阻率的GaN作为自支撑衬底,实现了两个接触制作在衬底不同侧,减小了开启电压,并且将石墨烯用作肖特基接触,进一步提高紫外透过率,提高日盲紫外探测器性能,以用于探测微弱信号的紫外光线。

技术领域:

本发明属于半导体技术领域,具体涉及一种应用石墨烯电极在GaN自支撑衬底上制备 AlGaN肖特基日盲紫外探测器的方法。

背景技术:

为了探测微弱的人为紫外光线,而不受太阳辐射的影响,日盲紫外探测器的研究就尤其重要。基于硅材料和其他常规III-V族化合物材料的半导体紫外探测器的制作工艺已经纯熟,但由于他们的禁带宽度较窄,制成探测器要与滤波器配合使用,才能工作现在日盲紫外波段。新型宽禁带材料,尤其是三元合金AlGaN的出现,为紫外探测器的研究带来突破性的进展。高Al组分(Al组分大于0.4)的AlGaN材料的禁带宽度连续可调,它对应的截止波长可以在日盲区(280nm~200nm)连续变化,同时具有抗辐射和耐高温的特点。

目前,AlGaN基日盲型紫外探测器已经与肖特基结构进行了结合,但大部分结构都是在蓝宝石衬底上制备,由于蓝宝石绝缘,器件的欧姆接触的两个电极只能制作在同一侧,增加了器件的开启电压,加之蓝宝石导热性差,使器件不能形成有效散热。目前针对新材料的工艺技术并不完善,缺少合适的衬底,这些探测器的性能依旧有待提高,达不到我们所期望的高的响应度。并且用作半透明肖特基接触的金属厚度相对较大,紫外透过率相对较小,造成大量的发射和吸收损耗。

本发明涉及的在现有的工艺基础上应用石墨烯电极在GaN自支撑衬底上制备的日盲紫外探测器,不仅解决了器件开启电压大的问题,还进一步提高了紫外透过率,实现了日盲紫外探测器性能的提高。

发明内容:

本发明的目的是提供一种应用石墨烯电极的GaN自支撑衬底肖特基型紫外探测器的结构和制作方法,保证响应度的情况下,在现有的工艺基础上提高探测器的性能。

为解决上述问题,本发明提供了一种应用石墨烯电极的GaN自支撑衬底肖特基型紫外探测器结构制作流程和方法,包括如下步骤:

通过氢化物化学气相沉积GaN自支撑衬底;

在所述GaN自支撑衬底上使用氢化物化学气相沉积依次沉积N型重掺杂高Al组分的 AlGaN层、N型轻掺杂高Al组分的AlGaN层。

在上述结构背面,通过电子束蒸发制作欧姆接触的背电极;

在N型轻掺杂AlGaN层上制备石墨烯肖特基接触,并且用剥离技术雕刻圆形图案;

在整个结构顶部沉积一层钝化层;

刻蚀部分钝化层至石墨烯肖特基接触表面,然后沉积金属盖帽层;

本发明兼顾目前的工艺生产流程,将高阻率的GaN作为自支撑衬底,实现了两个接触制作在衬底不同侧,减小了开启电压,并且将石墨烯用作肖特基接触,进一步提高紫外透过率,提高日盲紫外探测器性能,用于探测微弱信号的紫外光线。

附图说明

图1至图4是本发明探测器结构的制作方法一实施例中各个步骤的结构示意图。

具体实施方式

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