[发明专利]用于局部消毒的装置、系统及方法

权利要求书

1.一种气体分散装置，包括：

壳体，所述壳体限定沿着轴线的流体流动路径，所述流体流动路径具有相对的第一端部和第二端部，所述第一端部和所述第二端部中的每个端部均构造成操作性地与至少一个流动部件连接；

保持在所述壳体中的气体流动构件，所述气体流动构件具有上部部分和下部部分，所述气体流动构件包括供给气体通路，所述供给气体通路从所述上部部分处的气体供给端口延伸至底部部分处的第一气体分散开口和第二气体分散开口，所述气体流动构件还包括第一返回气体通路和第二返回气体通路，每个返回气体通路均从所述底部部分处的返回气体开口延伸至所述上部部分处的返回排出端口；

其中，所述气体流动构件能够定位在消毒位置处，而所述气体流动构件下部部分设置在所述流体流动路径中，所述气体分散开口构造成分散从所述气体供给端口接收的加压的消毒前气体，以对与所述流体流动路径的所述第一端部和所述第二端部操作性地连接的流动部件进行消毒，并且，所述返回气体排出端口构造成排出从所述返回气体开口接收的消毒后气体。

2.根据权利要求1所述的气体分散装置，其中，所述流体流动路径包括腔室以及远离所述腔室延伸的一对导管，每个导管均包括位于其远端部的凸缘，所述凸缘限定所述流体流动路径的所述第一端部和所述第二端部。

3.根据权利要求1所述的气体分散装置，还包括至少一个流动部件，所述流动部件与所述流体流动路径的所述第一端部和所述第二端部中的每个端部操作性地连接，其中，所述至少一个流动部件是连接器、配件、流动通路、传感器以及发射器中的至少一个。

4.根据权利要求3所述的气体分散装置，其中，在所述消毒位置处，所述分散开口构造成使得从所述气体供给端口接收的气体分散在所述流部件周围和/或通过所述流部件以实现流部件的10^-6的无菌保证水平(SAL)。

5.根据权利要求1所述的气体分散装置，其中，在所述消毒位置处，所述第一气体分散开口和所述第二气体分散开口与所述轴线大体上对准。

6.根据权利要求1所述的气体分散装置，其中，所述气体流动构件能够在所述消毒位置与产品流动位置之间移动，在所述产品流动位置处，所述气体流动构件的所述下部部分从所述流体流动路径退出。

7.根据权利要求6所述的气体分散装置，其中，在所述产品流动位置处，所述流体流动路径构造成接收流动通过所述流体流动路径的生物加工流体，并且，所述气体流动构件的所述下部部分包括构造成密封所述流体流动路径的密封件。

8.根据权利要求6所述的气体分散装置，还包括用以将所述装置锁定在所述产品流动位置处的锁定机构。

9.根据权利要求6所述的气体分散装置，还包括被保持在所述壳体中的剪切栓以及所述壳体上的至少一个剪切切割器接近端口，其中，所述至少一个剪切切割器接近端口构造成接收贯穿其中的剪切切割器以切割所述剪切栓，并且，当所述剪切栓被切割时，所述气体流动构件从所述消毒位置移动至所述产品流动位置。

10.根据权利要求1所述的气体分散装置，其中，所述装置是一次性使用的。