[发明专利]准分子激光退火工序用激光束调节模块有效
申请号: | 201710080493.8 | 申请日: | 2017-02-15 |
公开(公告)号: | CN107150181B | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 崔东奎;白种化;朴宰显;金炳秀 | 申请(专利权)人: | AP系统股份有限公司 |
主分类号: | B23K26/70 | 分类号: | B23K26/70;B23K26/38;H01L21/67 |
代理公司: | 北京锺维联合知识产权代理有限公司 11579 | 代理人: | 罗银燕 |
地址: | 韩国京畿道华城市东*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 准分子激光 退火 工序 激光束 调节 模块 | ||
本发明为准分子激光退火工序用激光束调节模块,上述准分子激光退火工序用激光束调节模块用于调节向基板照射的激光束的长度,上述准分子激光退火工序用激光束调节模块包括:激光束切割机,与上述激光束的移动方向垂直地配置,在内部设有包括制冷剂的冷却单元;制冷剂供给部,形成于上述激光束切割机的一侧,用于向上述冷却单元的内部循环供给上述制冷剂;检测部,用于检测上述冷却单元的温度;以及控制部,用于控制上述制冷剂的温度及流量。
技术领域
本发明涉及具有冷却单元的准分子激光退火(Excimer Laser Annealing)工序用激光束调节模块,并涉及如下的准分子激光退火工序用激光束调节模块:在调节向基板照射的激光束的长度的激光束切割机的内部形成有冷却单元,并包括用于控制上述冷却单元的控制部,来抑制在执行准分子激光退火工序的过程中发生的激光束切割的热量,由此确保激光束的均匀度,并抑制调节激光束的长度的部分局部性温度上升,从而可防止基板的斑点现象的发生。
背景技术
在有机发光显示装置等的情况下,若将玻璃用作为基板,则需要进行将非晶硅(Amorphous silicon)膜结晶化成多晶硅薄膜(Polysilicon)的工序。
为此进行基板的退火工序,通常,在有机发光显示装置等的平板显示器的退火工序中,向硅片照射激光束,来使非晶硅薄膜进行再次结晶化,由此形成多晶硅薄膜。
此时,根据用于工序的基板的大小,通过调节激光束的长度来使用,将为了调节激光束的长度而屏蔽激光束的部件作为激光束切割机(Beam cutter)。
在韩国授权专利公报第10-1288993号中公开了“激光退火装置”,上述激光退火装置的特征在于,包括:下板部,形成有用于使激光通过的入射口;上板部,形成于上述下板部,形成有覆盖上述入射口的透明窗;第一切割机部,安装于上述上板部,用于遮挡上述激光的一部分;以及第二切割机部,安装于上述下板部,用于遮挡通过上述入射口的上述激光的一部分。
但是,若在这些专利文献中记载的以往的激光退火装置使用激光束切割机来遮蔽激光束,则借助照射的激光束,激光束切割机的温度会上升,从而发生激光束切割机自身的热变形,上述周边部的温度也会上升,从而发生随之而来的气流变化。
若发生激光束切割机的热变形,则激光束的长度并不恒定,由此,在基板的退火工序过程中,向基板照射不均匀的激光束,从而导致不良发生,激光束切割机周边部的温度会上升,从而导致工序腔室内的气流变化,这会使基板发生斑点。
以往的准分子激光退火装置的激光束切割机在内部未形成有用于阻隔热量的冷却装置,因此存在上述问题。
为了解决上述问题,需要调节执行准分子激光退火工序的工序腔室内部整体的温度,但是存在需要过多费用的问题。
发明内容
本发明为了解决如上所述的现有技术中的问题而提出,本发明的目的在于,提供如下的准分子激光退火装置用激光束切割机:在准分子激光退火装置的激光束调节装置的激光束切割机内部形成有散热板(Heat sink)结构的冷却流路,由此,抑制在通过调节激光束的长度来执行准分子激光退火工序中发生的激光束切割机的温度上升,由此确保激光束的均匀度来防止基板的斑点现象。
为了实现上述目的,本发明一实施例的准分子激光退火工序用激光束调节模块调节向基板照射的激光束的长度,上述准分子激光退火工序用激光束调节模块的特征在于,包括:激光束切割机,与上述激光束的移动方向垂直地配置,在内部设有包括制冷剂的冷却单元;制冷剂供给部,形成于上述激光束切割机的一侧,用于向上述冷却单元的内部循环供给制冷剂;检测部,用于检测上述冷却单元的温度;以及控制部,根据通过上述检测部检测的上述冷却单元的温度来控制在上述制冷剂供给部循环供给的制冷剂的温度及流量。
其中,优选地,上述冷却单元构成为使上述制冷剂在内部移动的冷却流路。
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