[实用新型]掩膜框架有效
申请号: | 201620407306.3 | 申请日: | 2016-05-04 |
公开(公告)号: | CN205662586U | 公开(公告)日: | 2016-10-26 |
发明(设计)人: | 乔永康;潘晟恺;徐鹏 | 申请(专利权)人: | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C16/04 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
地址: | 230011 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 框架 | ||
【说明书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201620407306.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种小型辉光离子模具处理设备
- 下一篇:掩膜版、掩膜组件及显示装置
- 同类专利
- 专利分类