[发明专利]一种获取三栅FinFet器件的栅电容的方法及装置有效
申请号: | 201611192363.5 | 申请日: | 2016-12-21 |
公开(公告)号: | CN106844860B | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
发明(设计)人: | 殷树娟;刘兴 | 申请(专利权)人: | 北京信息科技大学 |
主分类号: | G06F30/3308 | 分类号: | G06F30/3308 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 林桐苒;栗若木 |
地址: | 100192 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 获取 finfet 器件 电容 方法 装置 | ||
1.一种获取三栅FinFet器件的栅电容的方法,包括:
获取费米能级与栅电压的关系模型;
根据所述三栅FinFet器件的栅电容与栅电压落在绝缘层部分的压降的关系、所述栅电压落在绝缘层部分的压降与费米能级的关系、及所述费米能级与栅电压的关系模型获取单位面积栅电容;
根据所述单位面积栅电容分别获取三栅FinFet器件的顶面的栅电容和侧面的栅电容,进而获取总的栅电容;其中,所述获取费米能级与栅电压的关系模型是通过以下方式实现的:
通过以下关系式:Vox=Vg-Vfb-ψs,ψs=Ef+n,Voff是阈值电压,Voff=Vfb+n,获取栅电压Vg落在绝缘层部分的压降Vox与费米能级Ef的关系式:Vox=Vg-Voff-Ef,其中,Vfb为平带电压,ψs为表面势,n为与材料有关的常数;
根据以下关系式获取费米能级与栅电压的关系模型Ef=f(Vg):
所述栅电压Vg落在绝缘层部分的压降Vox与费米能级Ef的关系式:Vox=Vg-Voff-Ef;
反型层表面电子浓度ns与所述压降Vox的关系:ns=q Cox Vox,其中,ns为反型层表面电子浓度,q为单位电子电量,Cox为栅氧化层电容;
反型层表面电子浓度ns与能带状态密度D的关系:
其中,q为单位电子电量,m*为载流子有效质量,h为普朗克常数,Vth=kT/q为热电压,k为玻尔兹曼常数,T为热力学温度,E0=γ0ns2/3和E1=γ1ns2/3是最低能带的两个能级。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于:
所述三栅FinFet器件的栅电容Cg与栅电压Vg落在绝缘层部分的压降Vox的关系:Cg=Vox·Cox/Vg,其中,Cox为栅氧化层电容;
所述栅电压落在绝缘层部分的压降Vox与费米能级Ef的关系:
Vox=Vg-Voff-Ef;及
所述费米能级Ef与栅电压Vg的关系模型:Ef=f(Vg),
所述获取单位面积栅电容为Cgarea:Cgarea=[Vg-Voff-f(Vg)]Cox/Vg。
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