[发明专利]一种二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物及其制备方法

说明书

本发明提供了一种二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物及其制备方法，以经典的包含羟基的二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物(简称DCM‑OH)为原料，在羟基邻位引入一个氢键受体醛基即可得到一个具有分子内氢键作用的二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物(简称DCM‑OH‑CHO)。与传统的DCM‑OH相比，该方法制备的DCM‑OH‑CHO具有更高的量子产率，较强的荧光稳定性，更适合再次修饰等特点。

技术领域

本发明属于有机功能材料制备技术领域，涉及一种二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物及其制备方法。

背景技术

近年来，二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物因其优异的光电性能、红色荧光发射和良好的光稳定性等优点而受广大研究者的青睐。这类有机化合物常用于荧光分子探针，分子逻辑门，光增感剂和有机发光二极管等领域。但是由于存在分子间聚集淬灭现象，大多数二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物荧光量子产率低，因此大大限制了这类材料的广泛应用。目前报道提高二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物量子率的方法主要分为“引入枝状基团”和“引入更强的供电子和/或拉电子基团”。在二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物骨架上引入位阻较大的基团可以降低分子间π-π*堆积从而增强荧光量子产率。但是由于枝状基团的空间位阻效应和取代基效应，使得这类物质的再次修饰变得更加困难，因此限制了二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物合成与更深的应用。引入更强的供和/或拉电子基团可以增强二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物中的推拉效应，从而增强荧光量子产率。但是，利用这种方法制备的化合物最大荧光发射蓝移，位于红光区域(λ_em≤650nm)之外。此外，引入的供和/或拉电子基团占住了这些化合物的活性位点，使得引入其他官能团变得更加困难。

针对以上问题，因此发展一种简单、有效的方法降低分子间聚集淬灭效应提高二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物的荧光量子产率具有非常重要的意义。

发明内容

针对目前制备高荧光量子产率二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物的方法存在荧光量子产率低、合成复杂、稳定性差、再次修饰困难等问题，本发明提供了一种二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物及其制备方法，这种方法以经典的包含羟基的二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物(简称DCM-OH)为原料，在羟基邻位引入一个氢键受体醛基即可得到一个具有分子内氢键作用的二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物(简称DCM-OH-CHO)。与传统的DCM-OH相比，该方法制备的DCM-OH-CHO具有更高的量子产率，较强的荧光稳定性，更适合再次修饰等特点。

为实现上述目的，本发明的技术方案是：

一种二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物，分子式为：

(简称DCM-OH-CHO)。

所述二氰基甲烯基苯并四氢呋喃衍生物的制备方法，包括以下步骤：

(1)以DCM-OH为原料，加入六次甲基四胺和酸，混合均匀，得混合液；所述混合液配方比例为：

DCM-OH 270毫克(0.8毫摩尔)

六次甲基四胺 56-1120毫克(0.4-8毫摩尔)

酸的体积 8-20毫升；

其中所述DCM-OH的分子式为：

所述酸选自盐酸、醋酸和三氟乙酸中的一种或几种；

(2)将上述混合液回流1-10小时；

(3)反应结束后，冷却至室温；中和残余酸液，萃取有机物质，干燥有机相，减压蒸馏除去溶剂，得到粗产物；

(4)所述粗产物用硅胶色谱分离提纯后得目标产物。