[发明专利]提高芍药盆花观赏品质的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种提高芍药盆花观赏品质的方法。

背景技术

随着人民生活水平的不断提高，人们对工作、生活环境的要求也越来越高，室内摆放盆栽植物作为装饰进行美化也越来越受到人们的青睐。芍药(Paeonia lactiflora Pall.)是芍药科多年生宿根草本花卉，为我国传统名花，与牡丹并称姐妹花。芍药因其花朵硕大、花色繁多、花型丰富、花香馥郁等优良的观赏特性，自古以来就深受人们的喜爱，而近年来盆栽芍药的市场需求急剧增加，已成为人们装点家居、美化办公环境的重要素材。芍药喜光耐寒、不耐积水，适宜栽植于排水良好、阳光充足的地方，在这种环境下植株才能生长旺盛、花大而多。而盆栽芍药常处于室内弱光处、根系生长受限且肥力不足，虽能开花，但花数量和质量明显下降，观赏价值较低，一盆芍药只能开两个花朵，并且植株整体生长势较弱。此外，盆栽芍药常因水分控制不合理而引起排水不畅，造成烂根，影响植株生长发育，导致一些优良品种不能够充分展现其观赏特性。虽然现代栽培技术在不断地提高，但与盆栽芍药相配套的栽培管理方法仍发展滞后，这给消费者和生产者带来了困难，制约了盆栽芍药的进一步发展。目前关于优质芍药的栽培管理技术研究主要针对大田栽培，如刘玉梅在《观赏芍药生态习性及栽培技术研究进展》一文中从栽植地选择、基肥、栽植、肥水管理、中耕除草、支撑及剪残花和繁殖等方面总结了芍药露地栽培技术；薛琴芬等在《芍药栽培与主要病虫害防治》一文中除了介绍了栽植和繁殖方法，对田间的主要病虫害及防治方法提出了详细的指导。这些技术虽然能提高芍药观赏价值，但都是在露地栽培条件下实现的，光照充足，水肥管理粗放，而在盆栽条件下，外界环境和生长条件不同，管理技术难以实现预期效果。而对于盆栽芍药的研究主要从花期调控和栽培基质等小环节展开，如张秀丽在《盆栽芍药花期调控研究》一文中通过温度和GA₃对盆栽芍药进行处理，以调控盆栽芍药花期；中国发明专利CN102106248B公开了一种芍药无土栽培基质，该方法将栽培过食用菌的废菌棒经过处理得到的菇渣替代部分泥炭土，该方法节约了经济成本；中国发明专利CN102126879A公开了一种盆栽芍药专用营养液，是由包含大量元素的母液和包含微量元素的母液调制而成，该方法提供了一种新型芍药施肥方法。虽然以上方法都提高了盆栽芍药质量，但主要集中在基质和肥料的选择，没有针对性给出系统的管理措施。

因此，研发一种提高盆栽芍药观赏品质的方法十分必要。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术存在的不足，提供一种提高芍药盆花观赏品质的方法，旨在解决盆栽芍药在生长过程中由于光照弱、肉质根系粗大、营养不足等因素引起的观赏品质下降等问题。

本发明的目的通过以下技术方案来实现：

提高芍药盆花观赏品质的方法，包括以下步骤：

a)选择芍药苗：选择植株根系完整、健壮、无病虫害的3年生以上芍药苗；

b)选择花盆：选择高度为25～30cm、口径为30～35cm、通气性能好、利于植株生长的花盆；

c)准备基质：采用由泥炭、园土、蛭石和珍珠岩混合构成的基质，泥炭、园土、蛭石和珍珠岩的体积比为(3～5):(1～1.5):(1～1.5):(1～1.5)；

d)上盆：上盆前用含有(600～1000)mg/L的50％多菌灵作为基质杀虫、杀菌剂和(2～8)mg/L生根粉的混合溶液浸根；在花盆底部铺一层陶粒垫排水孔，利于排出多余的水，然后铺上基质，将处理好的芍药植株放入、扶正，继续填入基质，并轻轻提苗、晃动、按压，使盆中基质更严实，栽植高度以植株鳞芽与盆口平齐为准；

e)水肥管理：上盆后第一次用清水将植株浇透，以花盆底部排水孔流出水为准，而后每次浇水均见干见湿，防止积水；芍药喜肥性强，早春芽萌动后，结合浇水轻施一次含氮的液体肥；在现蕾后、开花前，叶面喷施叶面肥；

f)光照：室内需将花盆置于阳台或光线充足处，温室栽培光线不足时需每天补光；现蕾期适时调整盆间距，通风透气，夏季需遮阴，避免强光灼伤；

g)修剪：现蕾后及时将侧蕾摘除，花后及时剪去残花。

进一步地，上述的提高芍药盆花观赏品质的方法，其中，步骤a)，每盆栽有5～10个饱满鳞芽。

进一步地，上述的提高芍药盆花观赏品质的方法，其中，步骤d)，混合溶液浸根3～5min；在花盆底部铺一层陶粒垫排水孔，然后铺上3～5cm基质。

进一步地，上述的提高芍药盆花观赏品质的方法，其中，步骤e)，含氮的液体肥为尿素。