[发明专利]包括介质天线的光调制器件以及光学装置

权利要求书

1.一种光调制器件，包括：

介质天线；

折射率可变层，面对所述介质天线并包括具有根据施加到其的信号而变化的折射率的材料；

第一导电层，设置在所述折射率可变层上方；和

第二导电层，设置在所述折射率可变层下方，

其中在所述第一导电层和所述第二导电层之间施加的电压在所述折射率可变层中形成电场，

其中通过在所述第一导电层和所述第二导电层之间施加的所述电压以及在所述介质天线与所述第二导电层之间的距离，调节所述介质天线的共振特性。

2.如权利要求1所述的光调制器件，其中如果将被所述光调制器件调制的光的波长为λ，则所述介质天线的横截面的宽度等于或小于λ/2。

3.如权利要求1所述的光调制器件，其中所述折射率可变层的折射率小于所述介质天线的折射率。

4.如权利要求1所述的光调制器件，其中所述介质天线包括具有大于10的介电常数的材料。

5.如权利要求1所述的光调制器件，还包括信号施加机构，该信号施加机构配置为在所述第一导电层和所述第二导电层之间施加所述电压，从而引起所述折射率可变层的折射率的变化。

6.如权利要求5所述的光调制器件，其中所述信号施加机构包括配置为在所述第一导电层和所述第二导电层之间施加所述电压的电压源。

7.如权利要求1所述的光调制器件，其中所述介质天线布置在所述折射率可变层上，

所述第一导电层布置在所述介质天线和所述折射率可变层之间。

8.如权利要求7所述的光调制器件，其中所述第一导电层包括透明导电氧化物。

9.如权利要求7所述的光调制器件，其中所述第二导电层包括金属性层。

10.如权利要求7所述的光调制器件，其中所述第二导电层包括透明导电氧化物。

11.如权利要求10所述的光调制器件，还包括布置在所述第二导电层下面的介质反射镜。

12.如权利要求7所述的光调制器件，还包括布置在所述折射率可变层和所述第二导电层之间的间隔物层。

13.如权利要求12所述的光调制器件，其中所述间隔物层包括具有比所述介质天线的折射率小的折射率的介电材料。

14.如权利要求1所述的光调制器件，其中所述折射率可变层布置在所述介质天线上，

所述第二导电层布置在所述介质天线下面。

15.如权利要求14所述的光调制器件，还包括布置在所述第二导电层下面的介质反射镜。

16.如权利要求1所述的光调制器件，其中所述介质天线包括多个介质天线单元，并且

所述折射率可变层包括分别面对所述多个介质天线单元的多个折射率可变单元。

17.如权利要求16所述的光调制器件，还包括：

折射率变化调节单元，配置为调节所述多个折射率可变单元的每个的折射率变化。

18.如权利要求17所述的光调制器件，其中所述折射率变化调节单元包括：

多对电极部，每对电极部配置为使所述多个折射率可变单元中的相应的折射率可变单元在其间；和

控制器，配置为控制施加到所述多对电极部中的每对电极部的电压。