[发明专利]平面研磨机有效
| 申请号： | 201611154846.6 | 申请日： | 2016-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN108214282B | 公开（公告）日： | 2020-12-15 |
| 发明（设计）人： | 邱瑛杰;邱育诚 | 申请（专利权）人： | 邱瑛杰;邱育诚 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/34 |
| 代理公司： | 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 | 代理人： | 朱凌 |
| 地址： | 中国台湾台南市安*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 平面 研磨机 | ||
【权利要求书】：
1.一种平面研磨机，其特征在于，包括：
一基座；
一第一旋转单元，设置在该基座上，该第一旋转单元有一转轴，该转轴具有一轴杆；
一下定位盘，连接该转轴；
一超音波单元，套设在该轴杆上，该超音波单元并直接接触该下定位盘，该超音波单元使该下定位盘上下震荡；
一第二旋转单元，设置在该基座上；
一上定位盘，连接该第二旋转单元，该上定位盘可移动至对应该下定位盘。
2.如权利要求1所述的平面研磨机，其特征在于：该转轴上有一液压轴承。
3.如权利要求1所述的平面研磨机，其特征在于：该第二旋转单元连接在一位移单元上，该上定位盘通过该位移单元移动至对应该下定位盘。
4.如权利要求3所述的平面研磨机，其特征在于：该位移单元上有一用以控制该上定位盘的移动位置的光学尺。
5.如权利要求3所述的平面研磨机，其特征在于：还有一雷射测距仪设置在该基座上，该雷射测距仪有一侦测接头可伸入该下定位盘上方。
6.如权利要求1所述的平面研磨机，其特征在于：该第二旋转单元的转速介于每分钟1000转至每分钟4000转。
7.如权利要求1所述的平面研磨机，其特征在于：该第一旋转单元的转速介于每分钟1转至每分钟60转。
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