[发明专利]一种CIGS薄膜太阳能电池及其制备方法在审
申请号: | 201611145360.6 | 申请日: | 2016-12-13 |
公开(公告)号: | CN108231915A | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 郭凯;于涛;张传升;宋斌斌;左宁;李新连;赵树利;陈颉 | 申请(专利权)人: | 神华集团有限责任公司;北京低碳清洁能源研究所 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/032;H01L31/18 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 陈静;严政 |
地址: | 100011 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 铜铟镓硒薄膜 导带 缓冲层 制备 金属背电极 依次层叠 窗口层 衬底 缓冲层材料 高透过率 无毒 电池 | ||
本发明涉及CIGS薄膜太阳能电池领域,公开了一种CIGS薄膜太阳能电池制备方法,该电池包括依次层叠的衬底、金属背电极、铜铟镓硒薄膜、缓冲层、窗口层,所述铜铟镓硒薄膜的导带底比所述缓冲层材料的导带底高0.001~0.1eV。制备CIGS薄膜太阳能电池的方法包括:在衬底上依次层叠形成金属背电极、铜铟镓硒薄膜、缓冲层、窗口层,其中,所述铜铟镓硒薄膜的导带底比所述缓冲层的导带底高0.001‑0.1eV。本发明提供的CIGS薄膜太阳能电池具有无毒且高透过率的优点。
技术领域
本发明涉及CIGS薄膜太阳能电池领域,具体地,涉及一种CIGS薄膜太阳能电池、一种制备CIGS薄膜太阳能电池的方法及由该方法制备得到的CIGS薄膜太阳能电池。
背景技术
在铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能电池中,一般用硫化镉(CdS)薄膜作为电池的缓冲层,对CdS要求有高的透过率、与CIGS薄膜之间良好的能带匹配,可以与CIGS形成良好的PN结。
在文献1“具有81.2%的填充因子的效率为19.9%的ZnO/CdS/CuInGaSe2太阳能电池(19.9%-efficient ZnO/CdS/CuInGaSe2Solar Cell with 81.2%Fill Factor,IngridRepins,etc,Prog.Photovolt:Res.Appl.2008;16:235-239)”中,其通过高含量的填充因子实现了对ZnO/CdS/CuInGaSe2太阳能电池的改性,具体地,该现有技术的ZnO/CdS/CuInGaSe2太阳能电池的效率达到19.9%。然而,该现有技术中使用的硫化镉中含镉,具有毒性较大且对环境不友好的缺点。
在文献2“具有Zn(O,S,OH)x缓冲层的Cu(InGa)Se2基薄膜PV模块的发展(Development of Cu(InGa)Se2-based thin-film PV modules with a Zn(O,S,OH)xbuffer layer)”中,该现有技术用Zn(O,S,OH)x作为缓冲层替代传统的CdS,Zn(O,S,OH)x的禁带宽度更高,所有有更好的光学透过率。并且Zn(O,S,OH)x不含镉,对环境友好。但是,Zn(O,S,OH)x中的硫氧比对CIGS电池的各个性能参数均有显著的影响,并且Zn(O,S,OH)x薄膜的制备工艺比较难于控制,现有技术中能够制造适合铜铟镓硒电池的这种薄膜的结构很少。事实上,制作出这种薄膜很容易,但是要用在电池上,并且达到一个较好的效率却很难。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术的方法工艺复杂、毒性高以及透过率低的缺陷,提供一种CIGS薄膜太阳能电池及其制备方法,以获得无毒且高透过率的CIGS薄膜太阳能电池。
本发明的发明人发现,传统的缓冲层材料为CdS,它的导带底比CIGS的导带底要高大约0.3eV,这个势垒不利于产生的电子从CIGS流到CdS方向,从而增加CIGS/CdS界面处的复合,降低电池的电流,从而降低电池效率。若采用导带底比CIGS的导带底低的材料形成缓冲层时,不会阻碍电子的传输,有利于提高电池的电流,从而得到高效率的电池。例如,采用TiO2作为缓冲层材料替代传统的CdS薄膜时,由于TiO2的导带底比CIGS的导带底低0.1eV,不会阻碍电子的传输,有利于提高电池的电流,从而得到高效率的电池。优选情况下,若采用的缓冲层材料的禁带宽度高时,有可能制作出光学透过率更高的薄膜,从而提高电池效率,例如TiO2的禁带宽度为3.2eV,大于CdS薄膜2.4eV的禁带宽度。
基于上述发现,本发明的发明人提出了如下的技术方案。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的