[发明专利]用于激光后碎屑移除系统和方法的牺牲层

权利要求书

1.一种从晶片移除激光后碎屑的方法，其包括：

在待图案化层上方形成牺牲层，其中所述牺牲层包括水溶性粘合剂和水溶性紫外光UV吸收剂；

使用激光烧蚀图案化所述牺牲层和所述待图案化层；和

用水移除所述牺牲层和沉积在所述牺牲层上的碎屑。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述激光烧蚀使用准分子激光。

3.根据权利要求2所述的方法，其中准分子激光包括248nm、308nm或355nm准分子激光。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述水溶性粘合剂选自由以下各者组成的群组：聚乙烯醇PVA、聚乙烯吡咯烷酮PVP、聚氧化乙烯PEO、聚丙烯酸材料、乙基纤维素、甲酯，以及其组合。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述水溶性UV吸收剂选自由以下各者组成的群组：苯并三唑类UV吸收剂材料、三嗪类UV吸收剂材料，以及其组合。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述牺牲层为约0.5微米到2微米厚。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述牺牲层为约1微米到1.5微米厚。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述待图案化层包括介电材料、玻璃、金属，或其组合。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述牺牲层中的所述水溶性粘合剂与所述水溶性UV吸收剂的比率为从约30:1到约5:1。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述水溶性粘合剂包括聚氧化乙烯PEO，且所述水溶性UV吸收剂包括液体羟苯基三嗪。

11.根据权利要求1所述的方法，其中移除所述牺牲层和所述碎屑包括在所述牺牲层上喷淋水，或使用水浴。

12.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括在用水移除所述牺牲层和碎屑之后，用醇冲洗所述待图案化层。

13.一种用于执行根据权利要求1所述的方法的系统，其包括：

激光烧蚀系统；

水碎屑移除系统；和

晶片处理系统。

14.一种从晶片移除激光后碎屑的方法，其包括：

组合水溶性粘合剂与水溶性紫外光UV吸收剂以形成溶液；

将所述溶液应用于介电、玻璃或金属层上以形成牺牲层；

使用激光烧蚀图案化所述牺牲层和所述介电、玻璃或金属层；和

用水移除所述牺牲层和沉积在所述牺牲层上的碎屑。

15.根据权利要求14所述的方法，其中所述溶液包括约1重量％到10重量％的所述水溶性粘合剂。

16.根据权利要求15所述的方法，其中所述水溶性粘合剂包括聚氧化乙烯PEO，且所述水溶性UV吸收剂包括液体羟苯基三嗪。

17.根据权利要求14所述的方法，其中所述激光烧蚀使用准分子激光。

18.根据权利要求14所述的方法，其中所述水溶性粘合剂选自由以下各者组成的群组：聚乙烯醇PVA、聚乙烯吡咯烷酮PVP、聚氧化乙烯PEO、聚丙烯酸材料、乙基纤维素、甲酯，以及其组合。

19.根据权利要求14所述的方法，其中所述水溶性UV吸收剂选自由以下各者组成的群组：苯并三唑类UV吸收剂材料、三嗪类UV吸收剂材料，以及其组合。

20.根据权利要求14所述的方法，其中所述牺牲层为约1微米到1.5微米厚。

21.根据权利要求14所述的方法，其进一步包括在用水移除所述牺牲层和碎屑之后，用醇冲洗所述介电、玻璃或金属层。

22.一种用于执行根据权利要求14所述的方法的系统，其包括：

激光烧蚀系统；

水碎屑移除系统；和

晶片处理系统。

23.一种从晶片移除激光后碎屑的方法，其包括：

形成包括水溶性粘合剂和水溶性紫外光UV吸收剂的溶液；

在介电层上形成牺牲层；

使用准分子激光烧蚀图案化所述牺牲层和所述介电层；和

通过水喷淋移除沉积在所述牺牲层上的碎屑和所述牺牲层。