[发明专利]一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法

说明书

本发明一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，所述方法采用两个设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸、两个釉泵、淋釉钟罩、淋釉斗组成闭路釉浆循环系统，在整个釉浆循环系统中，釉浆始终处于降温、循环流动、过筛处理的节奏中，很好的解决了淋釉过程出现的釉浆触变、釉浆液面结皮、釉浆不均匀等问题，同时可滤掉一些大的杂质颗粒，主釉缸釉浆液面稳定，对整个淋釉系统起到稳定的基石作用，本发明一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法很好的保持了砖坯整个淋釉过程的稳定。

技术领域

本发明涉及在陶瓷生产中一种淋釉方法，尤其是一种可以保持釉浆恒温、淋釉过程稳定的方法。

背景技术

目前，在陶瓷生产中，淋釉看起来是一道比较简单的工序，但又是比较容易出错的工序，很多瓷砖釉面缺陷都是淋釉引起，像釉面波纹、不平、针孔、釉泡、釉粉等缺陷，淋釉引起的缺陷在瓷砖缺陷降级中占有很大比例。目前，淋釉过程主要采用单釉缸淋釉方式，一个釉缸、一个釉泵，釉泵抽釉输送到釉斗，釉斗的釉一部分向下流向淋釉钟罩，经淋釉钟罩呈帘幕状淋在砖面上，另一部分经回釉管流回釉缸(釉泵输釉流量大于釉斗向下流量)，淋釉钟罩帘幕淋釉一部分淋在砖面一部分经集釉斗收集流回到釉缸，釉缸、釉泵、釉斗、淋釉钟罩、集釉斗在釉泵与输釉管联接下组成一个循环系统。此循环系统在生产过程中存在很多缺陷，

1、釉缸中釉浆在釉泵的搅拌过程会存在分层差异，釉缸下层的釉浆搅拌速度较快流动性好，上层流动性慢时会出现触变现象，上层釉浆呈固体果冻状态，搅动一下又成釉浆。触变现象不去处理时间一长随着表层水份的蒸发表层会形成一层釉皮，此釉皮水份含量减少，经搅拌不能返回成釉浆，时间越长釉皮会越厚。釉皮块或颗粒淋在砖面，砖会形成釉团釉泡等缺陷。釉缸中釉的触变同时也导致釉浆的不均匀，釉浆的不均匀淋釉烧成后会出现产品颜色不稳定。

2、釉缸中的釉浆在使用过程中，釉浆液位会逐步下降，下降到一定位置又添加新釉料，液位又回升，整个淋釉工序釉缸中的釉浆液位处于一个上下下上的变化过程，这对于稳定淋釉十分不利，釉浆液位的高低会影响釉泵抽釉的压力，从而影响输釉量的变化，输釉量的变化也就是整个循环系统的变化。当釉浆液位低于或平行釉泵泄流孔时，釉浆从釉泵泄流孔流出速度快很容易飞浅出来，同时釉浆很容易产生气泡，泄流孔失去外压流量加大，相对向上输釉量就会减小，这对淋釉是十分不利。

3、釉浆粘性大，易沉淀、同色与均匀性要求高，釉泵在釉缸中需要不断搅拌，搅拌叶片旋转摩擦产生大量热量，导致釉浆温度升高，釉浆温度高会引起釉浆性能变差，釉浆会变粘，釉浆水分蒸发加快，淋釉釉量不稳定等问题。

发明内容

为了克服目前淋釉的缺点：本发明提供一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，其特征在于：所述方法采用两个设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸、两个釉泵、淋釉钟罩、淋釉斗组成闭路釉浆循环系统，釉浆始终处于降温、循环流动、过筛处理的循环状态。

本发明方法采用如下技术方案：

首先，本发明采用了一种组合淋釉装置，包含主釉缸，主釉缸釉泵，主釉泵输釉管，淋釉斗，回釉管，淋釉钟罩，集釉管，主釉缸釉泵具有第一泄流孔，集釉管上连接一集釉斗，其改进在于，还包含：一副釉缸及与之配合的副釉缸釉泵，副釉缸釉泵具有第二泄流孔；一副釉泵输釉管，其入口端设置于副釉缸内，出口端延伸至主釉缸；所述副釉缸内的釉浆通过副釉缸釉泵及副釉泵输釉管输送入至主釉缸内；一溢流管，其入口端设置于主釉缸的靠近顶部位置，出口端延伸至副釉缸，主釉缸内釉浆通过溢流管回流至副釉缸；所述回釉管延伸至副釉缸；所述集釉管延伸至副釉缸。

其中，所述主釉缸和副釉缸均为包含釉缸外壁和釉缸内壁的双层结构；所述釉缸外壁和釉缸内壁之间设置有镙旋形分隔层并形成有镙旋形冷却液通道；所述镙旋形冷却液通道的入口设在釉缸缸体底部外壁上，出口设在釉缸缸体外壁上部与外界相通。

其中，所述主釉缸设置有第一过筛网，所述副釉泵输釉管的出口端与之相对；所述副釉缸设置有第二过筛网和第三过筛网，所述溢流管的出口端与第二过筛网相对，所述回釉管和集釉管的出口端与之相对。